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日本Nikon 6英寸分步重复光刻机NSR 1755i7B
技术指标及功能
把掩膜版上的图形按照一定的比例缩小复制到涂布有光刻胶的晶圆上，分区域进行步进式曝光。本机台可用于125mm×125mm掩模和φ100mm及150mm的晶圆高精度投影曝光，曝光精度可达500nm。
基本指标
1. RESOLUTION：0.5μm
2. LENS DISTORTION：≤0.9μm
3. RETICLE ALIGNMENT ACCURACY：≤0.02μm
4. STEPPING ACCURACY：≤0.08μm
5. OVERLAY ACCURACY：≤0.15μm(X，Y)
6. OPEN FLAME(MAX. EXPOSURE AREA)：17.5×17.5mm
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