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E系列是针对科研机构、高校实验室及小批量试生产需求设计的高精度磁控溅射镀膜设备，适用于新材料开发、功能薄膜制备（如导电膜、半导体膜、光学膜等）以及精密器件表面改性研究。该设备采用模块化架构，集成直流/射频溅射电源、多靶位兼容系统与智能温控模块，支持反应溅射工艺（如氧化物、氮化物薄膜沉积），可满足金属、合金、陶瓷及化合物纳米级薄膜的制备需求。
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