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立式化学气相沉积炉(SiC、BN)
立式化学气相沉积炉(SiC、BN)

参考价格

100-150万元

型号

VCVD

品牌

顶立科技

产地

湖南

样本

暂无
湖南顶立科技股份有限公司

金牌会员

|

第11年

|

生产商

工商已核实

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核心参数
  • 非金属电热元件:

    其他
  • 金属电热元件:

    其他
  • 烧结气氛:

    真空
  • 温控精度:

    ±5
  • 最高温度:

    1500
  • 额定温度:

    1500
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立式化学气相沉积炉(SiC、BN)

  • 产品描述:

  • 立式化学气相沉积炉(SiC、BN)可用于材料的表面涂层、基体改性、复合材料制备等

  • 应用范围:

  • 外延片基座、晶体炉高温耐材、热弯模具、半导体坩埚、陶瓷基复合材料等


技术特征

采用先进的控制技术,能精密控制MTS的流量和压力,炉膛内沉积气流稳定,压力波动范围小;

全密闭沉积室,密封效果好,抗污染能力强;

多通道工艺气路,流场均匀,无沉积死角,沉积效果好;

多级高效尾气处理系统,能有效处理高腐蚀性尾气、易燃易爆气体、固体粉尘及低熔点粘性产物,环境友好;

可选配新设计的防腐蚀真空机组,持续工作时间长,维修率极低;

使用工艺气氛:真空/CH4/H2/N2/Ar/BCI3/NH3/MTS。


产品规格

参数\型号VCVD-0305-SICVCVD-0608-SICVCVD-0812-SICVCVD-1120-SICVCVD-1520-SIC
工作区尺寸D×H(mm)300×500600×800800×12001100×20001500×2000
**温度(℃)15001500150015001500
温度均匀性(℃)±5±7.5±7.5±10±10
极限真空度(Pa)1-1001-1001-1001-1001-100
压升率(Pa/h)0.670.670.670.670.67
加热方式电阻电阻电阻电阻电阻

以上参数可根据工艺要求进行调整,不作为验收依据,具体以技术方案和协议为准。


配置选择

结构形式:卧式-单开门/双开门;立式-上出料/下出料

炉门锁紧方式:手动/自动

炉壳材质:内层不锈钢/全不锈钢

保温材质:碳毡/石墨毡/碳纤维固化毡/陶瓷纤维毡

加热器、马弗材质:石墨/CFC/金属

热电偶:K/N/C/S分度号

真空泵:机械泵组/耐腐蚀泵组



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产品质量

10分

售后服务

10分

易用性

10分

性价比

10分
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