非金属电热元件:
其他金属电热元件:
镍铜丝烧结气氛:
真空温控精度:
±5最高温度:
1500额定温度:
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立式化学气相沉积炉(沉积炭)可用于以碳氢气体(如C3H8、CH4等)为碳源的材料表面或基体等温CVD/CVI处理。
☆ 采用多温区独立控温,温度均匀性好;
☆ 采用特殊结构沉积室,密封效果好,抗污染能力强;
☆ 采用多通道沉积气路,流场均匀,无沉积死角,沉积效果好;
☆ 对炭沉积过程中产生的焦油、固体粉尘、有机气体等能进行有效处理。
参数\型号 | VCVD-0305-C | VCVD-0608-C | VCVD-0812-C | VCVD-1120-C | VCVD-1320-C | VCVD-1520-C |
工作区尺寸D×H(mm) | Φ300×500 | Φ600×800 | Φ800×1200 | Φ1100×2000 | Φ1300×2000 | Φ1500×2000 |
**温度(℃) | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 |
温度均匀性(℃) | ±5/±10 | ±7.5/±10 | ±7.5/±15 | ±10/±15 | ±10/±15 | ±10/±20 |
极限真空度(Pa) | 1-100 | 1-100 | 1-100 | 1-100 | 1-100 | 1-100 |
压升率(Pa/h) | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 |
加热方式 | 电阻/感应 | 电阻/感应 | 电阻/感应 | 电阻/感应 | 电阻/感应 | 电阻/感应 |
参数\型号 | VCVD-1822-C | VCVD-2032-C | VCVD-2632-C | VCVD-3338-C | VCVD-3344-C |
工作区尺寸D×H(mm) | Φ1800×2200 | Φ2000×3200 | Φ2600×3200 | Φ3300×3800 | Φ3300×4400 |
**温度(℃) | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 |
温度均匀性(℃) | ±15 | ±15 | ±15 | ±20 | ±20 |
极限真空度(Pa) | 1-100 | 1-100 | 1-100 | 1-100 | 1-100 |
压升率(Pa/h) | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 |
加热方式 | 电阻 | 电阻 | 电阻 | 电阻 | 电阻 |
以上参数可根据工艺要求进行调整,不作为验收依据,具体以技术方案和协议为准。
☆ 炉门:丝杆升降/液压升降/手动升降;旋转移开/平行移开(大尺寸炉门);手动锁紧/自动锁圈锁紧
☆ 炉壳:全碳钢/内层不锈钢/全不锈钢
☆ 炉胆:软碳毡/软石墨毡/硬质复合毡/CFC
☆ 加热器、马弗:等静压石墨/模压三高石墨/细颗粒石墨
☆ 工艺气路系统:体积/质量流量计;手动阀/自动阀;进口/国产
☆ 热电偶:K分度号/N分度号/C分度号/S分度号
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