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立式化学气相沉积炉
立式化学气相沉积炉

参考价格

100-150万元

型号

VCVD

品牌

顶立科技

产地

湖南

样本

暂无
湖南顶立科技股份有限公司

金牌会员

|

第11年

|

生产商

工商已核实

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核心参数
  • 非金属电热元件:

    其他
  • 金属电热元件:

    镍铜丝
  • 烧结气氛:

    真空
  • 温控精度:

    ±5
  • 最高温度:

    1500
  • 额定温度:

    1500
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 立式化学气相沉积炉(沉积炭)可用于以碳氢气体(如C3H8、CH4等)为碳源的材料表面或基体等温CVD/CVI处理。


技术特征

☆ 采用多温区独立控温,温度均匀性好;

☆ 采用特殊结构沉积室,密封效果好,抗污染能力强;
☆ 采用多通道沉积气路,流场均匀,无沉积死角,沉积效果好;
☆ 对炭沉积过程中产生的焦油、固体粉尘、有机气体等能进行有效处理。


产品规格

参数\型号VCVD-0305-CVCVD-0608-CVCVD-0812-CVCVD-1120-CVCVD-1320-CVCVD-1520-C
工作区尺寸D×H(mm)Φ300×500Φ600×800Φ800×1200Φ1100×2000Φ1300×2000Φ1500×2000
**温度(℃)150015001500150015001500
温度均匀性(℃)±5/±10±7.5/±10±7.5/±15±10/±15±10/±15±10/±20
极限真空度(Pa)1-1001-1001-1001-1001-1001-100
压升率(Pa/h)0.670.670.670.670.670.67
加热方式电阻/感应电阻/感应电阻/感应电阻/感应电阻/感应电阻/感应


参数\型号VCVD-1822-CVCVD-2032-CVCVD-2632-CVCVD-3338-CVCVD-3344-C
工作区尺寸D×H(mm)Φ1800×2200Φ2000×3200Φ2600×3200Φ3300×3800Φ3300×4400
**温度(℃)15001500150015001500
温度均匀性(℃)±15±15±15±20±20
极限真空度(Pa)1-1001-1001-1001-1001-100
压升率(Pa/h)0.670.670.670.670.67
加热方式电阻电阻电阻电阻电阻

以上参数可根据工艺要求进行调整,不作为验收依据,具体以技术方案和协议为准。



配置选择

☆ 炉门:丝杆升降/液压升降/手动升降;旋转移开/平行移开(大尺寸炉门);手动锁紧/自动锁圈锁紧 

☆ 炉壳:全碳钢/内层不锈钢/全不锈钢
☆ 炉胆:软碳毡/软石墨毡/硬质复合毡/CFC
☆ 加热器、马弗:等静压石墨/模压三高石墨/细颗粒石墨
☆ 工艺气路系统:体积/质量流量计;手动阀/自动阀;进口/国产
☆ 热电偶:K分度号/N分度号/C分度号/S分度号

 


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产品质量

10分

售后服务

10分

易用性

10分

性价比

10分
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