
参考价格
1万元以下型号
EWN-W型品牌
产地
日本样本
暂无出口直径(mm):
80进口直径(mm):
90泵轴位置:
其他驱动方式:
磁力输送物料:
船舶应急消防淡水、舱底含油污水、中小型舱压载海水连接方式:
法兰材质:
不锈钢口径:
DN50压力:
0.4MPa设计标准:
NK 日本船级社标准森泽计量泵
森泽 EWN-W型
国产计量泵
看了日本 IWAKI 易威奇 EWN-W型 水质控制用电磁定量泵 CMP浆液的用户又看了
留言询价
咨询日本 IWAKI 易威奇 EWN-W型 水质控制用电磁定量泵 CMP浆液
使用微信扫码拨号

仅通过泵和传感器即可实现水质管理
具备水质控制功能的新型电磁定量泵
EWN-W系列的特点
控制器变体
对WPO(pH/ORP)、WEC(电导率)、WCT(冷却用)、WCL(余氯)这几种控制器的类型进行了标准化处理。通过将传感器直接连接到泵上,可以简化水质控制系统的结构。此外,还采用了专门设计的大尺寸LCD显示屏,从而提升了系统运行状态的可视性。
高分辨率
可设置为1至360spm,间隔为1spm。能够实现连续的药液注入,并精确控制输出量。
多接口接头
全新采用了多接口结构。通过特殊的螺母,可避免在连接管道时出现扭曲现象。
泵体
采用防水防尘设计(相当于IP65等级),通过一体化成型减少了密封部位的数目。考虑到各种使用环境,控制部分配备了树脂外壳,而各个连接端子则采用了防水型设计。
自由电源
采用通用电源设计,可适配全球各国的电源电压。(AC100〜240V)
泵的简要规格
| 吐出量范围 | 38〜420毫升/分钟 |
|---|---|
| 吐出压力范围 | 0.2〜1.0MPa |
| 主要材质 | PVC |
| 液温范围 | 0〜40℃ |
| 电源电压 | AC100〜240V 50/60Hz 单相 |
控制器

内置 WPO/WEC/WCT/WCL 四种控制逻辑,直连对应传感器,自动根据水质信号调节加药流量,省去独立控制柜。
工况痛点精密仪器、小型自动化滑台、光学平台、检测设备微型传动常遇到:往复高频弯折,普通微索易疲劳断丝、寿命短外径公差差、股丝不均,传动间隙大、定位不稳防锈差,潮湿 / 微量腐蚀环境容易锈损卡死柔性不足
2026-08-18
一、工艺痛点静电卡盘(ESC)制造中,陶瓷生片电极印刷常见难点:大尺寸生瓷片薄、易形变,普通真空吸附易造成薄片翘曲、对位偏移电极层厚度不均、离模拉扯导致线条毛刺、断线,直接影响静电吸附均匀性浆料(导电
2026-08-18
一、工艺痛点贵金属首饰滚筒抛光工序常见难题:频繁抛光工况下,磨料 / 磨头损耗快,传统机型拆装更换耗时,停机久、产能低金银软质贵金属易过抛、边角塌边,转速与翻滚状态不好管控,成品光泽不均小件戒指、吊坠
2026-08-18
一、工艺痛点电池正极 / 负极粉体、精细陶瓷浆料湿法研磨常见难题:粉体团聚严重,单纯搅拌无法一次解聚,成品粒径分布宽,一致性差金属杂质管控严苛,普通球磨机内衬、介质磨损易引入污染,影响电池循环、陶瓷绝
2026-08-18
日本 IWAKI 易威奇 EWN-W 型水质控制电磁定量泵|CMP 抛光浆液药剂精准投加半导体 CMP 抛光工艺需要稳定、精准投加氧化剂、pH 调节剂、分散剂等各类药剂,药剂投加波动直接影响抛光速率、
日本CEMCO TCMD数字式化学混合机——CMP抛光浆液精准搅拌的理想之选一、引言:CMP抛光工艺与浆液搅拌的技术挑战化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing,简称C
无需稀释在线监控 CMP 浆料粗大颗粒|日本 RION MR-S1 浆料监测系统半导体先进制程 CMP 工艺中,抛光液内少量粗大颗粒极易造成晶圆表面划痕缺陷,离线实验室检测存在严重滞后。日本RION
日本 IWAKI 易威奇 EWN-W型 水质控制用电磁定量泵 CMP浆液的工作原理介绍?
日本 IWAKI 易威奇 EWN-W型 水质控制用电磁定量泵 CMP浆液的使用方法?
日本 IWAKI 易威奇 EWN-W型 水质控制用电磁定量泵 CMP浆液多少钱一台?
日本 IWAKI 易威奇 EWN-W型 水质控制用电磁定量泵 CMP浆液的说明书有吗?
日本 IWAKI 易威奇 EWN-W型 水质控制用电磁定量泵 CMP浆液的报价含票含运费吗?
日本 IWAKI 易威奇 EWN-W型 水质控制用电磁定量泵 CMP浆液有现货吗?
0有办事机构吗?
0销售电话是多少?