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HORIBA产地
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HORIBAPLATO系列
国产成像系统
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产品特点
测量项目：峰值波长、峰值强度、积分强度、半峰宽（FWHM）、AlGaN 层中铝含量
厚度测量：GaN 层薄膜厚度
弯曲度测量（可选）
符合 SEMI 标准的晶圆：2”、3”、4”、150 mm、200 mm
符合 SEMI 标准的 300 mm 晶圆（可选）
可选激光波长：213 nm、266 nm、325 nm、375 nm、405 nm、532 nm、980 nm、1064 nm 等
自动对焦功能，可在不修改测量配置的情况下测量不同厚度的晶圆
支持 Excel、CSV 导出，格式灵活
兼容 SECS/GEM、MES
优秀的光致发光（PL）成像系统，全球销量超过 250 台（覆盖 9 个国家、63 位客户）
产品概要
PLATO GaN 功率器件/UV-C
自动光致发光扫描成像系统
PLATO 数据示例: UV-C （213 nm 激光激发）
PLATO 数据示例: GaN 功率器件 Al% （266 nm 激光激发）
Bow 测量结果示例（位移传感器）
PLATO VCSEL & NIR LD
自动光致发光扫描成像系统
PLATO 数据示例: 940 nm VCSEL
PLATO 数据示例: 光通信和气体传感器（NIR波段）
PLATO 特殊功能
PLATO 参数
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