
参考价格
1万元以下型号
SANWN0品牌
产地
日本样本
暂无功率(kw):
AC100V±10%,2A重量(kg):
约 10kg规格外形(长*宽*高):
302×295×465mm森泽气体设备
森泽SANWN0
国产气体设备
看了日本 PLA 不活性气体循环净化装置 SANWN0的用户又看了
留言询价
咨询日本 PLA 不活性气体循环净化装置 SANWN0
使用微信扫码拨号

便于以低成本创建低露点、低氧浓度的环境。可与隔离箱相连,利用吸附剂(可更换型)去除箱内的惰性气体及水分等物质。
| 品番 | 称呼 | 型号 | 性能 | 尺寸 (宽×深×高度) | 概算重量 (千克) | 循环气体流量 | 电源电压 | 酸素去除 | 水分除去 | 水分除去能力 | 水分除去剂 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 27360 | SANWN0 | SANWN0 | 脱水分 | 302×295×465 | 10 | 20升/分钟 | AC100V±10% 2A | × | 〇 | 露点温度-50℃td※1 | 分子清洁剂13X |
※1…水分去除能力为手套箱内为空状态时的数据,并非保证值。
该装置与手套箱相连,通过循环净化的方式,利用吸附剂去除手套箱内部的惰性气体以及箱内产生的水分等物质。吸附剂柱为两根并联设置,因此也可以采用活性炭作为前端吸附剂、分子筛作为后端吸附剂的配置方式。此外,吸附剂是可以更换的。
标准化通用卡套接头,全系列 SANPLA 手套箱无缝对接,即插即用无需管路改造;
低功耗小型风机,整机仅 2A 电流,适合实验室长时间连续循环运行。
工况痛点精密仪器、小型自动化滑台、光学平台、检测设备微型传动常遇到:往复高频弯折,普通微索易疲劳断丝、寿命短外径公差差、股丝不均,传动间隙大、定位不稳防锈差,潮湿 / 微量腐蚀环境容易锈损卡死柔性不足
2026-08-18
一、工艺痛点静电卡盘(ESC)制造中,陶瓷生片电极印刷常见难点:大尺寸生瓷片薄、易形变,普通真空吸附易造成薄片翘曲、对位偏移电极层厚度不均、离模拉扯导致线条毛刺、断线,直接影响静电吸附均匀性浆料(导电
2026-08-18
一、工艺痛点贵金属首饰滚筒抛光工序常见难题:频繁抛光工况下,磨料 / 磨头损耗快,传统机型拆装更换耗时,停机久、产能低金银软质贵金属易过抛、边角塌边,转速与翻滚状态不好管控,成品光泽不均小件戒指、吊坠
2026-08-18
一、工艺痛点电池正极 / 负极粉体、精细陶瓷浆料湿法研磨常见难题:粉体团聚严重,单纯搅拌无法一次解聚,成品粒径分布宽,一致性差金属杂质管控严苛,普通球磨机内衬、介质磨损易引入污染,影响电池循环、陶瓷绝
2026-08-18
一、产品简介日本 Pearl(珀尔光学)AC 系列自准直仪,属于光学式平面角度测量仪器,依靠自准直光学原理完成平面倾角、棱镜角度、平行度检测,同时可用于镜头调焦、法兰后截距(Flange‑back)测
真空脱泡机与普通搅拌机的区别真空脱泡机与普通搅拌机都是实验室和工业常用的混合设备,最核心的区别在于:能否去除物料中的气泡。真空脱泡机可在搅拌的同时完成脱泡,而普通搅拌机只负责混合,无法脱泡。1 工作原
在线高剪切·连续乳化分散——日本TAIHEIYO太平洋机工 MDN型连续式乳化分散机技术解析乳化、分散、悬浮与溶解是食品、日化、医药、化工及电子材料等行业的基础工艺环节,其处理效果直接决定乳液的稳定性
日本 PLA 不活性气体循环净化装置 SANWN0的工作原理介绍?
日本 PLA 不活性气体循环净化装置 SANWN0的使用方法?
日本 PLA 不活性气体循环净化装置 SANWN0多少钱一台?
日本 PLA 不活性气体循环净化装置 SANWN0的说明书有吗?
日本 PLA 不活性气体循环净化装置 SANWN0的报价含票含运费吗?
日本 PLA 不活性气体循环净化装置 SANWN0有现货吗?
波莫纳有办事机构吗?
波莫纳销售电话是多少?