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GMSD2000 药物混悬液研磨分散机
GMSD2000 药物混悬液研磨分散机

参考价格

5-10万元

型号

GMSD2000-379

品牌

SGN/思峻

产地

上海

样本

暂无
上海思峻机械设备有限公司

金牌会员

|

第10年

|

生产商

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核心参数
  • 调速范围:

    0-14000rpm
  • 分散轮直径(mm):

    45-296mm
  • 全容积(m³):

    0.1-10000L
  • 能耗:

    4-160kw
  • 处理量:

    300-50000L/H
  • 物料类型:

    液体、固体、粉末、粘稠液体、浆料等
  • 工作原理:

    立式
标签:

SGN/思峻分散机

SGN/思峻GMSD2000-379

国产分散机

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一、产品概述

GMSD2000 在线式研磨分散机为管线式连续湿法超细处理设备,整机采用 316L 不锈钢材质,腔体镜面抛光,满足医药 GMP 与 CIP 在位清洗规范。设备专门针对药物混悬液研制,可将原料药固体颗粒、团聚结块进行多级研磨打散,在密闭管线内完成粉碎、分散、均质全过程,有效解决混悬液颗粒粗大、沉降过快、粒径不均匀等问题,适配抗生素、口服混悬剂、注射液悬浮物料的连续化生产线。

二、工作原理

设备内置多级串联定转子研磨单元,电机带动转子高速运转,腔体内部形成负压,混悬物料被连续吸入研磨腔。物料先经过粗磨齿进行结块打散,再进入精细研磨间隙,在高速撞击、强力剪切、挤压湍流的多重作用下,固体药物颗粒被逐级破碎至微米级。整个工序密闭连续运行,物料一次性完成研磨与分散,无空气混入,避免药液氧化,可直接接入流水线不间断出料,也可外接管路循环研磨达到更窄粒径分布。

GMSD研磨分散机内部结构.png


三、核心优势

多级研磨腔体一体化设计,一台设备同时完成解聚、粉碎、分散三道工序,简化整条生产线布局。

卫生级无死角结构,拆装简单,支持在位清洗与高温灭菌,符合制药行业洁净生产要求。

全程密闭管线作业,杜绝粉尘挥发与药液污染,保证药物混悬液批次稳定性。

定转子间隙可调,粒径可控,成品颗粒分布区间窄,显著降低药液储存沉降速度,提升产品保质期。

连续在线大流量生产,运行平稳,可长时间不间断作业,适合规模化制药量产。

四、设备参数

型号

标准流量L/h

转速(rpm

线速度(m/s

马达功率(KW

进出口尺寸

GMSD2000/4

300

14000

41

4

DN25/DN15

GMSD2000/5

1500

10500

41

11

DN50/DN32

GMSD2000/10

4000

7200

41

22

DN80/DN65

GMSD2000/20

10000

4900

41

45

DN100/DN80

GMSD2000/30

20000

2850

41

90

DN150/DN125

GMSD2000/50

60000

1100

41

160

DN200/DN150


创新点

采用阶梯式多级研磨腔体结构,逐级缩小研磨间隙,先打散大块团聚再精细微化,无需前置预混设备,一次性将药物固体颗粒研磨分散均匀,有效避免大颗粒堵塞管路,大幅提升混悬液粒径一致性

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