上海研倍新材料 专业生产金属粉末 氧化铪（HfO₂）粉末

1、产品信息

2、产品规格

样品测试包装：客户指定（＜1kg / 密封瓶）

样品产品包装：1kg / 密封瓶

常规产品包装：25kg / 塑料桶（内衬聚乙烯塑料袋）

备注：采用密封包装，内层聚乙烯塑料薄膜袋，外层塑料桶封装，支持定制包装规格（粒径、纯度等可按要求定制）。需存放于干燥、通风、无腐蚀性气体的环境中，避免与酸、碱接触。

3、产品概述

氧化铪（Hafnium Oxide，HfO₂），又称二氧化铪，是一种高纯度无机非金属粉末材料，CAS号为12055-23-1，分子量210.49 g/mol。其核心竞争力在于超高的熔点、优异的热稳定性、高介电常数和宽带隙，是微电子、光学涂层及高温陶瓷等高端领域的关键基础原料。该产品为白色粉末，具有单斜、四方和立方三种晶体结构。单斜相密度9.68 g/cm³，四方相密度10.1 g/cm³，立方相密度10.3 g/cm³。熔点约2810℃，沸点约5400℃，热膨胀系数5.8×10⁻⁶/℃。不溶于水、盐酸和硝酸，可溶于浓硫酸和氢氟酸。粒度支持纳米级、微米级（1-3μm）及-325目等规格定制。该材料具有宽带隙（约5.7 eV）和高介电常数（κ≈20-25），折射率约1.95-2.1（可见光谱）。粉末主要适配物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）、原子层沉积（ALD）、等离子喷涂及陶瓷烧结等工艺。

4、产品用途

氧化铪粉末凭借其超高熔点、高介电常数、宽带隙及优异热稳定性，在微电子、光学涂层、耐火材料及核工业等领域扮演着关键基础原料的角色。

微电子与半导体：作为高κ栅极绝缘层材料，用于替代SiO₂的先进金属-氧化物-半导体场效应晶体管（MOSFET）及DRAM电容器介质层，可大幅降低栅极漏电流。

光学涂层：用于高功率激光器、紫外光学元件及反射镜的高折射率光学薄膜涂层，具有高激光损伤阈值。

耐火材料与高温陶瓷：用于制造超高温耐火坩埚、热障涂层及陶瓷基复合材料，在极端高温环境下提供热防护。

核工业：用于制备金属铪及其合金、核反应堆控制棒材料及抗放射性涂料。