
参考价格
5-10万元型号
GMSD2000-341品牌
SGN/思峻产地
上海样本
暂无调速范围:
0-14000rpm分散轮直径(mm):
45-296mm全容积(m³):
0.1-10000L能耗:
4-160kw处理量:
300-50000L/H物料类型:
液体、固体、粉末、粘稠液体、浆料等工作原理:
立式SGN/思峻分散机
SGN/思峻GMSD2000-341
国产分散机
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一、产品概述
GMSD2000 纳米级研磨分散机是 SGN 思峻推出的管线式一体化湿法超细设备,采用前置锥形研磨腔 + 后置多级高剪切分散腔的复合结构,把胶体磨破碎与纳米高剪切分散集成在一台主机内。设备可一次性完成硬质团聚颗粒粗磨、粉体润湿浸润、纳米软团聚解聚、浆料均质四道工序,无需锆珠介质,就能将填料细化至纳米级别,有效解决纳米粉体抱团、浆料沉降、粒径分布过宽等问题。整机为卫生级不锈钢材质,可做成密闭防爆机型,既可以直通连续出料,也能闭路循环研磨,广泛用于锂电浆料、纳米涂料、导电油墨、改性树脂、医药悬浮液等物料的连续化量产,可直接接入自动化生产线做前端制浆预处理。
二、工作原理
电机带动立式转子高速旋转,依靠负压将粉液物料连续吸入腔体。物料自上而下分三级递进加工:**级进入可调间隙的锥形研磨工位,依靠定转子之间的挤压、摩擦、撞击,打碎干粉硬团聚块与粗大颗粒,让粉体快速被液相润湿;第二级进入缓冲剪切腔,利用高强度湍流打散细碎絮团,分散剂均匀包裹颗粒表面,搭建稳定悬浮体系;第三级进入纳米分散腔,在微小齿隙内产生水力剪切、空化与高速撞击,彻底剥离纳米级软团聚,把颗粒细化到纳米区间。整套流程一次过机完成研磨 + 分散,配合夹套水冷控制温升,防止热敏物料降解,*终得到粒径均匀、不易返粗沉降的纳米浆料。
三、核心优势
研磨 + 分散二合一,破除两级团聚先磨碎硬质大颗粒,再做纳米级剪切解聚,硬团聚、软团聚一次性处理到位,省去预混、预磨多道工序,大幅减轻后端砂磨机的负荷,缩短整条制浆工艺流程。
无介质湿法研磨,无杂质污染不需要氧化锆研磨珠,不存在介质磨损带来的黑点、重金属杂质,浆料纯度更高,同时省去更换、清洗锆珠的成本,运维费用大幅降低。
管线式密闭连续生产,品质稳定立式负压密闭进料,无粉尘飞扬,可在线连续作业,批量生产时每一批浆料的粒径与分散度高度统一;腔体带全程水冷,剪切温升可控,适合树脂、原料药等热敏性物料。
模块化结构,一机适配多物料可更换耐磨齿形工作头,既能处理炭黑、氧化铝等高硬度粉体,也能加工脂质、蛋白等易破损物料;卫生款支持在位清洗,防爆款适配溶剂型浆料,小试到量产机型参数可线性放大。
四、设备参数
型号 | 标准流量(L/h) | 转速(rpm) | 线速度(m/s) | 马达功率(KW) | 进出口尺寸 |
GMSD2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1500 | 10500 | 41 | 11 | DN50/DN32 |
GMSD2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN100/DN80 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
采用前置锥形研磨 + 后置多级纳米剪切串联腔体,无介质即可先后破碎硬团聚与剥离纳米软团聚,一次过机完成粗磨与超细分散,兼顾产能与浆料粒径窄分布。
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