参考价格
5-10万元型号
GMSD2000-306品牌
SGN/思峻产地
上海样本
暂无调速范围：
0-14000rpm分散轮直径（mm）：
45-296mm全容积（m³）：
0.1-10000L能耗：
4-160kw处理量：
300-50000L/H物料类型：
液体、固体、粉末、粘稠液体、浆料等工作原理：
立式SGN/思峻分散机
SGN/思峻GMSD2000-306
国产分散机
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一、产品概述
GMSD2000 卫生级管线式研磨分散一体机，专为粉底液、持妆粉底等彩妆膏体连续化量产开发。设备整合锥形研磨腔体与多级高剪切分散结构，可一次性完成二氧化钛、氧化铁色粉、滑石粉、珠光粉体的硬团聚破碎、湿法细化、油脂均质混合，有效解决色粉抱团、膏体出现砂粒白点、上色有色差、成品储存分层沉降等行业难题。整机严格遵循化妆品 GMP 洁净标准，密闭管线式连续进料出料，减少浆料裹气氧化，避免杂菌污染，是底妆膏体在线制浆的核心精加工设备。
二、工作原理
物料连续进入主机腔体，先进入精密研磨工位，依靠锥面定转子高速挤压、摩擦，强力打散无机颜料形成的硬团聚颗粒；物料随即自动进入多级剪切分散腔，在狭小工作间隙内产生高强度湍流撕裂，进一步剥离粉体软团聚，让色粉均匀浸润在油相体系中。物料单次过机即可完成粗碎、超细研磨、均质混合整套工序，无需多次循环加工，把颜料稳定细化至微米区间，膏体丝滑无颗粒，保证粉底涂抹均匀、妆面细腻持久。
三、核心优势
采用前置研磨 + 后置高剪切双级串联一体化结构，先破除颜料结块再精细化均质，一次过机彻底消除粉底砂眼颗粒；全系列机型统一转子线速度与腔体间隙，实验室小样配方能够零偏差线性放大至工业化生产线，解决小样膏体细腻、批量生产出现颗粒与色差的痛点。整机内腔镜面抛光无死角，支持 CIP 在线清洗，更换色号无交叉串色；配备密封冷却结构，严控浆料温升，防止油脂氧化酸败，可长时间密闭连续流水线作业，满足彩妆洁净生产要求。
四、主要技术参数
型号 | 标准流量（L/h） | 转速（rpm） | 线速度（m/s） | 马达功率（KW） | 进出口尺寸 |
GMSD2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1500 | 10500 | 41 | 11 | DN50/DN32 |
GMSD2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN100/DN80 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
研磨分散双腔体一体化加工，一次性打散粉底颜料团聚颗粒，全线机型剪切参数统一，小样配方可平稳放大量产，彻底根除膏体砂点与批次色差问题
在化工、食品、制药等工业领域，实现物料高效、精细化的处理是提升产品品质的关键。研磨、均质、分散、乳化等核心工艺，对最终产品的稳定性、口感和性能起着重要作用。其中，高速剪切均质（HSSH）是一种安全、环
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