参考价格
5-10万元型号
GMSD2000-297品牌
SGN/思峻产地
上海样本
暂无全容积（m³）：
0.1-10000L能耗：
4-160kw处理量：
300-50000L/H物料类型：
液体、固体、粉末、粘稠液体、浆料等工作原理：
立式SGN/思峻混合机
SGN/思峻GMSD2000-297
国产混合机
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一、产品概述
GMSD2000 管线式一体化研磨分散设备，专为锂电隔膜纳米二氧化硅陶瓷涂覆浆料连续化生产设计。设备集成锥面研磨腔体与多级高剪切分散单元，可一次性完成气相二氧化硅粉体解聚、湿法研磨、液相润湿、粘结剂均质混合，有效破除二氧化硅粉体硬团聚，严控浆料粒径分布，杜绝涂层颗粒白点、隔膜微孔堵塞、浆料静置絮凝沉降等问题。整机密闭管线式连续进料，无粉尘污染，金属杂质可控，完全满足锂电池洁净制浆标准，是二氧化硅隔膜涂覆液量产的核心前处理设备。
二、工作原理
物料连续进入主机腔体，首先进入精密研磨工位，依靠定转子高速挤压、摩擦、撞击，打碎二氧化硅粉体硬团聚结块；随后物料自动流入多级剪切腔体，在微米级狭小间隙内产生高强度湍流，剥离颗粒间软团聚，让原生纳米颗粒均匀分散在水溶液中，并与 PVDF 粘结剂充分融合。物料一次过机即可完成破碎、研磨、分散三道工序，无需多次循环加工，浆料粒径窄、稳定性强，保证隔膜涂层轻薄均匀，不堵塞透气微孔。整机可配套夹套降温，控制剪切温升，避免浆料凝胶化。
三、核心优势
采用前置研磨 + 后置高剪切双级串联结构，先破除二氧化硅硬团聚再精细化分散，一次过机即可消除浆料颗粒杂质；全系列机型统一转子线速度与工作间隙，实验室小样工艺能够零偏差线性放大至连续生产线，彻底解决小试分散稳定、量产反复团聚、涂层缺陷多的行业痛点。腔体镜面抛光无死角，可实现 CIP 在位清洗，换料无交叉污染；密闭结构严控重金属析出，机械密封带冷却系统，支持全天候连续管道化制浆，适配高固含二氧化硅悬浮液长期稳定生产。
四、主要技术参数
型号 | 标准流量（L/h） | 转速（rpm） | 线速度（m/s） | 马达功率（KW） | 进出口尺寸 |
GMSD2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1500 | 10500 | 41 | 11 | DN50/DN32 |
GMSD2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN100/DN80 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
研磨分散双腔体一体化作业，一次性打散二氧化硅软硬团聚，全线机型剪切参数统一，隔膜涂覆浆料小样配方可无缝放大量产，有效防止微孔堵塞与浆料沉降
在化工、食品、制药等工业领域，实现物料高效、精细化的处理是提升产品品质的关键。研磨、均质、分散、乳化等核心工艺，对最终产品的稳定性、口感和性能起着重要作用。其中，高速剪切均质（HSSH）是一种安全、环
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