参考价格
5-10万元型号
GMSD2000-291品牌
SGN/思峻产地
上海样本
暂无调速范围：
0-14000rpm分散轮直径（mm）：
45-296mm全容积（m³）：
0.1-10000L能耗：
4-160kw处理量：
300-50000L/H物料类型：
液体、固体、粉末、粘稠液体、浆料等工作原理：
立式SGN/思峻分散机
SGN/思峻GMSD2000-291
国产分散机
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一、产品概述
GMSD2000 立式管线式一体化研磨分散设备，专为锂电隔膜隔离层悬浮液连续化量产打造。设备集成锥面研磨腔体与多级高剪切分散单元，一次性完成纳米氧化铝、勃姆石、二氧化硅等陶瓷粉体硬团聚破碎、颗粒细化、粘结剂均质混合作业。有效解决纳米填料表面能高、极易絮凝抱团，浆料大颗粒多、涂布出现针孔、涂层厚薄不均、长时间静置沉降等行业难题。整机密闭管道化进料出料，无金属杂质析出，完全满足新能源锂电洁净制浆标准，可直接对接隔膜自动化涂布生产线。
二、工作原理
物料连续进入主机腔体，首先进入高精度研磨工位，依靠定转子高速挤压、摩擦、强力撞击，彻底破碎粉体硬团聚块；随后物料自动进入多级剪切分散腔，在狭小间隙内形成高强度湍流场，剥离颗粒之间的软团聚，让陶瓷粉体均匀分散在 PVDF 水性体系中。物料单次过机即可完成粗破碎、超细研磨、均质分散全流程，无需多次循环加工，浆料粒径分布窄，悬浮稳定性强，保障隔膜隔离层涂层致密均匀，不会堵塞隔膜微孔通道。
三、核心优势
采用前置研磨 + 后置高剪切双腔体串联结构，先破除粉体硬团聚再精细化均质，一次过机即可消除浆料大颗粒；全系列机型统一转子线速度与腔体间隙，实验室小试浆料配方可以零偏差线性放大至连续生产线，彻底解决隔离层悬浮液小样分散稳定、量产频繁团聚、涂布缺陷居高不下的痛点。整机内腔镜面抛光无死角，支持 CIP 在位清洗，换料无交叉污染；配备机械密封冷却结构，长时间高速运行温升可控，避免粘结剂高温变质，适配 24 小时不间断密闭连续制浆。
四、主要技术参数
型号 | 标准流量（L/h） | 转速（rpm） | 线速度（m/s） | 马达功率（KW） | 进出口尺寸 |
GMSD2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1500 | 10500 | 41 | 11 | DN50/DN32 |
GMSD2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN100/DN80 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
研磨与高剪切一体化串联加工，一次性打散陶瓷粉体硬团聚，全线机型剪切参数统一，隔膜隔离层浆料小试工艺可平稳放大量产，杜绝涂布颗粒与微孔堵塞问题
在化工、食品、制药等工业领域，实现物料高效、精细化的处理是提升产品品质的关键。研磨、均质、分散、乳化等核心工艺，对最终产品的稳定性、口感和性能起着重要作用。其中，高速剪切均质（HSSH）是一种安全、环
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