参考价格
5-10万元型号
GMSD2000-284品牌
SGN/思峻产地
上海样本
暂无调速范围：
0-14000rpm分散轮直径（mm）：
45-296mm全容积（m³）：
0.1-10000L能耗：
4-160kw处理量：
300-50000L/H物料类型：
液体、固体、粉末、粘稠液体、浆料等工作原理：
立式SGN/思峻分散机
SGN/思峻GMSD2000-284
国产分散机
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GMSD2000 卫生级在线式研磨分散机，是 SGN 思峻专为化妆品原料生产设计的一体化湿法超细设备。本机将胶体研磨与多级高剪切分散融为一体，可对滑石粉、二氧化钛、云母粉、纳米珠光粉体、彩妆色粉等物料进行连续解聚、湿法研磨、均质混合，一次性消除粉体抱团、颗粒粗大、浆料有颗粒白点等问题。整机严格按照化妆品 GMP 洁净标准制造，密闭连续进料出料，有效防止粉尘飞扬与物料污染，是面霜、粉底液、彩妆色浆、护肤悬浮液连续化制浆的主力设备。
物料连续进入设备腔体，先进入研磨工位，依靠锥面定转子之间的挤压、摩擦、剪切，打碎粉体硬团聚团；随后自动进入多级高剪切分散腔体，在狭小间隙内承受高速撞击、涡流撕裂，进一步剥离颗粒软团聚，把粉体细化至微米级。物料一次过机即可完成粗破碎、超细研磨、均质分散整套工序，无需反复循环处理，粉体分散均匀，浆料细腻无颗粒，保证彩妆涂抹顺滑、无颗粒感，成品长时间不分层。
创新采用研磨 + 分散双腔体串联一体化结构，先研磨破团再精细化分散，一次过机即可达到多级循环加工效果；全系列机型保持统一线速度与工作间隙，实验室小试配方可零偏差线性放大到量产生产线，解决化妆品小样细腻、大货出现颗粒、批次品质不一致的痛点。整机腔体镜面抛光无卫生死角，支持 CIP 在线清洗，换料无交叉污染，密闭加工减少空气混入，杜绝浆料起泡与细菌滋生，完全满足日化洁净生产要求。
四、主要技术参数
型号 | 标准流量（L/h） | 转速（rpm） | 线速度（m/s） | 马达功率（KW） | 进出口尺寸 |
GMSD2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1500 | 10500 | 41 | 11 | DN50/DN32 |
GMSD2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN100/DN80 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
研磨与分散双工位一体化作业，粉体一次过机完成超细细化，全线机型参数统一，化妆品小试工艺可平稳放大量产，保证膏体细腻无颗粒
在化工、食品、制药等工业领域，实现物料高效、精细化的处理是提升产品品质的关键。研磨、均质、分散、乳化等核心工艺，对最终产品的稳定性、口感和性能起着重要作用。其中，高速剪切均质（HSSH）是一种安全、环
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