SD-900M 磁控溅射仪

一、核心技术参数

二、产品核心特点

1. 性能出众，成膜品质**

•        采用磁控增强溅射技术，有效提升离子轰击密度，制备的膜层致密均匀、附着力强且纯度高，可满足高精度表征实验对膜层质量的严苛要求。

•        0-100mA宽幅溅射电流连续可调，搭配1mA高精度控制，既能灵活调控沉积速率，又能实现快速成膜，大幅提升实验效率与膜层制备一致性。

•        低温溅射工艺设计，可有效降低溅射过程中的热效应，**程度减少对热敏感样品的损伤，**保留样品原始形貌与性能。

•        腔体密封性能优异，搭配高速旋片式真空泵，抽真空迅速高效，磁控系统运行静音稳定，为实验室提供安静、高效的工作环境。

•        大容积腔体与可调节样品台组合，适配多种尺寸、类型的样品，在保障实验效果的同时，具备突出的性价比优势。

2. 多重防护，运行安全可靠

•        配备真空、电流、过温三重互锁保护系统，搭配实时监测模块，全方位保障设备运行、操作人员及样品安全，杜绝意外情况发生。

•        核心部件采用抗氧化、耐腐蚀材质制造，结构设计稳固，不仅维护成本低，还能确保设备长期连续运行的稳定性与可靠性。

3. 易用百搭，适配多元场景

•        φ150mm×H115mm大容积腔体搭配0-20mm可升降样品台，可灵活适配不同规格、类型的样品，满足多样化实验需求。

•        采用柔性真空管道设计，设备摆放灵活不受空间限制；操作界面简洁直观，参数调控精准，实验数据重复性强，降低操作人员学习成本。

三、适用范围

SD-900M磁控溅射仪专为材料表征实验场景设计，广泛适用于扫描电镜（SEM）、能谱分析（EDS）、X射线光电子能谱（XPS）、X射线衍射（XRD）等各类表征实验。

设备采用低温溅射核心技术，可在绝缘、低导电样品表面精准制备均匀致密的导电或功能薄膜。全程低温工艺可有效避免样品损伤，完整保留样品原始形貌，同时高效解决样品荷电、放电及表征信号失真等痛点问题，显著提升检测精度、表征稳定性与实验数据可靠性，为科研工作者提供高质量的样品预处理解决方案。

四、公司信息

地址：中国北京市昌平区新飞达电子工业发展中心

网站：

邮箱：sales@vpi*********

注册号：91110114MAC8K5PP2N