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全自动RCA清洗机
1）： 采用典型、普遍的湿法清洗方法，使硅片清洗的更彻底；
2）： 适用于6-12”晶圆的刻蚀清洗；
3）： 适用于半导体、第三代半导体（碳化硅）等领域；
4）： 全自动控制，可选择自动配/补液，保证设备的安全稳定性；
5）： 高速移载机械手，伺服驱动控制，保证设备运行平稳，定位可靠；
6）： 在线式甩干，保证清洗的洁净度；
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