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Bhadra™立式
Bhadra™立式

参考价格

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型号

Bhadra™立式

品牌

拉普拉斯

产地

广东

样本

暂无
拉普拉斯新能源科技股份有限公司

会员

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第3年

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生产商

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                           Bhadra™立式LPCVD BHC200


功能

  • 氮化硅/氧化硅/多晶硅（Poly-Si）/非晶硅（α-Si）薄膜沉积

  • 适用于功率半导体/衬底材料 

重要参数

  • **晶圆尺寸：8寸及以下晶圆

  • **载片量：125片/批

  • **加热温度：1050℃

  • 成膜种类：根据不同工艺要求工艺源可选配 

装卸片方式

  • 立式垂直升降

  • 垂直真空密封系统 

            优势

  • 先进的压力控制技术

  • 五区高精度温度场控制

  • 先进的颗粒控制技术

  • 先进微环境氧含量控制

  • 稳定的传输控制能力

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