荫罩掩膜对准器 Shadow Mask Aligner

设备简介：

本设备可以用于精确和可重建性的对准荫罩掩膜和晶圆。可以放于真空腔体用于PVD工艺。沉积后，夹盘可以打开，晶圆和掩膜可以不破坏的分离，并且掩膜板可以重复利用。

夹盘可以用于任何基底尺寸以满足用户的要求，并且我们也可以提供精确和经济的由金属、硅、玻璃、陶瓷等制造的荫罩掩膜。

产品型号：SMA-100，SMA-150，SMA-200

晶圆和荫罩尺寸：100mm，150mm，200mm，取决于设备的配置

样品台特征：

X和Y方向范围：步进10μm，灵敏度2μm

Z方向范围：步进10μm，灵敏度2μm

旋转角度：360°不间断

倾斜：工厂校准，工程师手动调节

对准精度（溅射后）

线性对准：典型值6μm， ZUI大值10μm

旋转对准：0.001°到0.009°

夹盘

晶圆尺寸：100mm，150mm，200mm

夹盘材料：阳极氧化铝或非阳极氧化铝

夹盘厚度：20mm取决于晶圆和掩膜的厚度

荫罩掩膜（客户可定制荫罩掩膜）

材料：硅、石英、玻璃、金属、陶瓷

仪器尺寸：500mm x 250mm

安装需求：用于对准过程中用来观察的显微镜、真空

注：可以根据用户的需求进行定制。

优点：

精确和可重建性的PVD涂层构建

用于PVD的减震夹盘

易用、对晶圆无损夹持机构

由于真空夹持，可以在对准的过程简单操作

可以用于不同的晶圆尺寸

不需要安装

低运行成本