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等离子刻蚀技术是在涂胶的晶圆上高效地复制掩膜图形，通过化学和物理过程选择性地从晶圆表面去除不需要的材料的一个重要工艺过程，是现代集成电路制造领域不可缺少的工艺步骤。刻蚀机，来源：中微半导体随着集成电路