表面分析设备UHV超高真空腔体

表面分析超高真空系统设备, 提供样本表面在分析过程时维持洁净, 以利纵深分析。

表面分析设备CF300 Flange超高真空腔室

材质：304S.S.

表面处理：电解抛光

规格：CF300 Flange 圆柱形 UHV超高真空腔室

泄漏率<8 x 10-11mbar.l/sec

工作压力<1 x10-10 torr

RGA总压<1 x10-9 torr时， 45amu以上物质总分压<0.1%

高科技真空系统环境制程的开发初期都需要在实验室进行许多测试，Htc日扬真空制造之客制化真空腔体装配于多种实验设备，为研究者提供了适当的工具以进行各项实验。 

Htc日扬真空已建立的实绩包括各种实验用真空镀膜腔体、太空腔仿真装置、表面分析系统、光学量测系统及气体检测设备等，另外也承制了国内外同步辐射中心超高真空系统的腔体、真空镀膜机、蒸发镀膜机、磁控溅射镀膜机、离子镀膜机和等离子化学沉积真空装置学术研究。。

 欢迎联系我们，Htc日扬真空乐意为您提供UHV超高真空腔体(箱体)解决方案