
探测器:
背散射探测器加速电压:
基本模式 2 kV、5 kV、10 kV、15 kV、20 kV电子枪:
CeB6 灯丝,使用寿命优于 3000 小时电子光学放大:
200,000 X光学放大:
3-19X分辨率:
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Phenom XL 台式原位扫描电子显微镜
液相电化学 原位加热 电学偏压
面向材料动态过程研究的台式原位 SEM 方案,通过 FireBolt 和 HydroBolt 模块,把温度、电压、液相电化学条件与同一区域 SEM 图像建立时间对应关系。
Phenom XL 主机与 FireBolt、HydroBolt 原位模块(原资料图片)
原位能力 | 研究对象 | 关键价值 |
液相电化学 | 电沉积、枝晶、腐蚀与界面变化 | 同步关联电化学信号与表面形貌 |
加热与偏压 | 纳米颗粒、纳米线、薄膜、二维片层等 | 追踪温度和电场作用下的结构演变 |
跨平台关联 | 通用 Nano-Chip 样品 | 连接原位 SEM 与原位 TEM 分析流程 |
传统 SEM 常以处理前后的静态图像进行比较。Phenom XL 原位扫描电镜把液相、电位、温度和电学偏压引入成像过程,使研究人员能够在外部刺激作用下直接观察材料的成核、生长、重构、退化或失效。借助 MEMS 芯片技术,原位条件可在 SEM 腔体内建立,系统由静态成像工具扩展为动态实验平台。
Phenom XL 可先利用台式 SEM 的易用性开展现象探索,再将搭载加热或偏压功能的同款 Nano-Chip 转移至 TEM 平台。这一流程把微米尺度的 SEM 面扫观察,与更高分辨率的 TEM 成像及成分化学分析建立关联,同时保持样品和控制参数的一致性。
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MEMS 芯片技术实现原位 SEM | 通用 Nano-Chip 连接原位 SEM 与原位 TEM |
原位模块与 DENSsolutions Lightning、Lightning Arctic 透射电镜样品杆共用一致的软件、接口与控制电子模块。对于需要逐级深入验证的材料研究,可在一个连贯流程中完成原位 SEM 现象筛选和原位 TEM 精细表征。
FireBolt 是基于 MEMS 技术的 SEM 原位加热与偏压平台,*多配备 8 个电接触点。研究人员可在升温、通电或两者共同作用时连续采集 SEM 图像,将结构变化与温度、电压和时间直接关联。
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FireBolt 安装于 Phenom XL 专用适配平台 | FireBolt 原位加热与偏压模块 |
项目 | FireBolt XL 联用配置 |
原位激励 | 加热和或偏压加载 |
温度范围 | 加热芯片:室温至 1300 °C;加热偏压芯片:室温至 900 °C |
电压范围 | -10 V 至 +10 V |
电接触点 | *多 8 个 |
样品类型 | 纳米颗粒、纳米线、薄膜、二维片层、FIB 薄片及混合块体 FIB 薄片 |
关联分析 | 支持加热与偏压 Nano-Chip 在 SEM 与 TEM 平台间转移 |
说明:主机分辨率、探测器、真空系统等 Phenom XL 配置应以正式产品配置单或技术协议为准;本页仅列原资料明确给出的原位联用参数。
应用方向 | 可观察过程 | 适用问题 |
原位高温 | 纳米颗粒在升温过程中的边缘、表面纹理与成分衬度变化 | 识别退化起始温区与结构演变顺序 |
纳米材料烧结 | 颗粒融合、孔隙收缩和结构粗化 | 分析烧结动力学与形貌稳定性 |
材料退化 | 同一区域在多个温度节点的连续变化 | 区分形貌变化与成分衬度变化 |
电迁移与器件失效 | 电流与温度共同作用下的结构重构 | 定位失效起点并关联电学加载条件 |
Sr2FeMo0.65Ni0.35O6-δ 纳米颗粒在室温、600 °C 和 900 °C 下的 SE 与 BSE 图像
案例要素 | 资料记录 |
研究样品 | Sr2FeMo0.65Ni0.35O6-δ 纳米颗粒 |
实验过程 | 在室温、600 °C 与 900 °C 连续采集 SE 和 BSE 图像 |
观察结果 | 升温过程中颗粒边缘、表面纹理及成分衬度持续变化;900 °C 时出现明显结构退化 |
研究价值 | 同一区域多温度节点对照,可判断退化起始温区,并区分形貌变化与成分衬度变化 |
HydroBolt 是基于 MEMS 的体相电化学样品台,可在 Phenom XL 腔体内开展液相偏压实验。毫升级反应腔体内配置真实对电极和参比电极,并结合芯片工作电极,使电化学曲线能够与电极表面的形貌变化对应。
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HydroBolt 与 Phenom XL 联用实拍 | HydroBolt 体相电化学样品台 |
项目 | HydroBolt XL 联用配置 |
原位激励 | 液相;液相与偏压 |
电极体系 | 三电极体系:工作电极 WE、对电极 CE、参比电极 RE |
工作电极 | 芯片上玻碳电极 |
外接电极 | Pt 对电极;Ag AgCl 参比电极 |
液相模式 | 静态 |
溶液体系 | 水溶液或有机溶剂 |
装配方式 | 支持在手套箱内完成敏感样品装配 |
应用方向 | 可观察内容 | 研究价值 |
电沉积 | 不同电位和时间下的沉积形貌 | 将电位、时间与成核和沉积位置直接关联 |
枝晶生长 | 枝晶成核位置、生长方向和关键时间节点 | 为沉积机理与安全性研究提供图像证据 |
电极退化与腐蚀 | 溶解、腐蚀和表面重构 | 把电流电位变化与界面形貌变化联系起来 |
电催化与燃料电池 | 液相条件下催化材料和膜电极组件的动态变化 | 观察更接近真实反应条件下的界面过程 |
Pt 工作电极表面 Zn 电沉积过程:t = 0.000 s 与 t = 53.673 s 的 SEM 图像及同步电化学响应
案例要素 | 资料记录 |
实验过程 | 在不同电位条件下记录 t = 0.000 s 与 t = 53.673 s 的 SEM 图像,并同步获取电化学响应 |
观察结果 | 工作电极表面从初始平整状态逐步形成可辨识的沉积结构,沉积位置与生长时间可直接追踪 |
研究价值 | 把电位和时间与成核位置、沉积形貌及枝晶生长联系起来,为沉积机理与安全性研究提供证据 |
HydroBolt 通过芯片工作电极与外接对电极、参比电极组成三电极测量体系。密封结构可快速组装,并支持在手套箱内完成空气敏感样品装配。
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外接 Pt 对电极和 Ag AgCl 参比电极的装配实拍 | 片上电极方案与真实三电极方案的电化学曲线对比(原资料图) | |
项目 | 资料描述 | |
电极体系 | 芯片工作电极配合外接 Pt 对电极和 Ag AgCl 参比电极,支持真实三电极测量 | |
装配方式 | 密封结构可快速组装,并支持在手套箱中完成空气敏感样品装配 | |
研究价值 | 相较仅使用片上电极的方案,可降低电位漂移风险,并便于开展更接近真实工况的电化学实验 | |
· 明确外部刺激:根据问题选择加热、偏压、液相或液相加偏压。
· 确定时间与条件节点:预设温度、电位和成像时间点,保证同一区域可重复复访。
· 同步记录:连续采集 SEM 图像,并记录温度、电压或电化学响应。
· 建立关联:比较同一区域在各条件节点的形貌、衬度和界面变化。
· 需要时跨平台深入分析:使用通用 Nano-Chip 将样品转移至 TEM 平台开展进一步表征。
Q1 Phenom XL 原位扫描电镜适合研究哪些动态过程?
答:适合观察材料在加热、偏压或液相电化学条件下发生的成核、生长、烧结、重构、退化、腐蚀、枝晶生长和器件失效等过程。
Q2 FireBolt 可以同时进行加热和偏压吗?
答:可以。资料明确说明 FireBolt 支持加热和或偏压加载。加热芯片温度范围为室温至 1300 °C;加热偏压芯片为室温至 900 °C。
Q3 FireBolt 的电压和电接触能力是多少?
答:电压范围为 -10 V 至 +10 V,*多提供 8 个电接触点。
Q4 HydroBolt 使用什么电极体系?
答:HydroBolt 使用三电极体系,包括芯片上玻碳工作电极、外接 Pt 对电极和 Ag AgCl 参比电极。
Q5 HydroBolt 能使用哪些液体?
答:资料列出的溶液体系为水溶液或有机溶剂,液相模式为静态。具体溶液与材料兼容性应在实验前按正式技术要求确认。
Q6 空气敏感样品能否装配?
答:HydroBolt 支持在手套箱内完成敏感样品装配。
Q7 能否把原位 SEM 结果与 TEM 结果关联?
答:可以。通用 Nano-Chip 支持加热与偏压样品在 SEM 与 TEM 平台之间转移,用于跨尺度关联分析。
Q8 这份产品页为什么没有列出 Phenom XL 主机分辨率等参数?
答:原资料未提供主机分辨率、探测器和真空系统等具体配置。相关主机参数应以正式配置单或技术协议为准,以避免不同配置之间的信息混用。
本产品详情中的 FireBolt、HydroBolt 参数和案例均来自所提供资料。涉及 Phenom XL 主机具体配置、可选探测器、软件版本、样品尺寸限制及现场安装条件时,应以供应商正式配置单、技术协议和**产品文件为准。
从静态观察到动态追踪,实现多物理场原位表征
飞纳 Phenom XL 台式原位扫描电镜创新性地将原位加热、电学偏压与液相电化学技术引入台式SEM,通过MEMS芯片实现材料在不同实验条件下的实时动态成像。突破传统电镜仅观察静态形貌的局限,可连续追踪材料成核、生长、结构演变及失效过程,并支持SEM/TEM跨平台关联分析,为材料科学、能源及半导体研究提供更灵活的原位表征方案。
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