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Phenom XL 台式原位扫描电子显微镜
Phenom XL 台式原位扫描电子显微镜

参考价格

面议

型号

XL 原位

品牌

飞纳

产地

荷兰

样本

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复纳科学仪器(上海)有限公司

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核心参数
  • 探测器:

    背散射探测器
  • 加速电压:

    基本模式 2 kV、5 kV、10 kV、15 kV、20 kV
  • 电子枪:

    CeB6 灯丝,使用寿命优于 3000 小时
  • 电子光学放大:

    200,000 X
  • 光学放大:

    3-19X
  • 分辨率:

    优于 8 nm
标签:

复纳科技扫描电镜

复纳科技XL 原位

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Phenom XL 台式原位扫描电子显微镜

液相电化学  原位加热  电学偏压

面向材料动态过程研究的台式原位 SEM 方案,通过 FireBolt 和 HydroBolt 模块,把温度、电压、液相电化学条件与同一区域 SEM 图像建立时间对应关系。

图片1.png 

Phenom XL 主机与 FireBolt、HydroBolt 原位模块(原资料图片)

原位能力

研究对象

关键价值

液相电化学

电沉积、枝晶、腐蚀与界面变化

同步关联电化学信号与表面形貌

加热与偏压

纳米颗粒、纳米线、薄膜、二维片层等

追踪温度和电场作用下的结构演变

跨平台关联

通用 Nano-Chip 样品

连接原位 SEM 与原位 TEM 分析流程

产品介绍

传统 SEM 常以处理前后的静态图像进行比较。Phenom XL 原位扫描电镜把液相、电位、温度和电学偏压引入成像过程,使研究人员能够在外部刺激作用下直接观察材料的成核、生长、重构、退化或失效。借助 MEMS 芯片技术,原位条件可在 SEM 腔体内建立,系统由静态成像工具扩展为动态实验平台。

从原位 SEM 到跨尺度机制分析

Phenom XL 可先利用台式 SEM 的易用性开展现象探索,再将搭载加热或偏压功能的同款 Nano-Chip 转移至 TEM 平台。这一流程把微米尺度的 SEM 面扫观察,与更高分辨率的 TEM 成像及成分化学分析建立关联,同时保持样品和控制参数的一致性。

图片2.png 

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MEMS 芯片技术实现原位 SEM

通用 Nano-Chip 连接原位 SEM 与原位 TEM

即插即用集成

原位模块与 DENSsolutions Lightning、Lightning Arctic 透射电镜样品杆共用一致的软件、接口与控制电子模块。对于需要逐级深入验证的材料研究,可在一个连贯流程中完成原位 SEM 现象筛选和原位 TEM 精细表征。


FireBolt 原位加热与偏压

FireBolt 是基于 MEMS 技术的 SEM 原位加热与偏压平台,*多配备 8 个电接触点。研究人员可在升温、通电或两者共同作用时连续采集 SEM 图像,将结构变化与温度、电压和时间直接关联。

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FireBolt 安装于 Phenom XL 专用适配平台

FireBolt 原位加热与偏压模块

FireBolt 准确参数

项目

FireBolt XL 联用配置

原位激励

加热和或偏压加载

温度范围

加热芯片:室温至 1300 °C;加热偏压芯片:室温至 900 °C

电压范围

-10 V 至 +10 V

电接触点

*多 8 个

样品类型

纳米颗粒、纳米线、薄膜、二维片层、FIB 薄片及混合块体 FIB 薄片

关联分析

支持加热与偏压 Nano-Chip 在 SEM 与 TEM 平台间转移

 

说明:主机分辨率、探测器、真空系统等 Phenom XL 配置应以正式产品配置单或技术协议为准;本页仅列原资料明确给出的原位联用参数。


FireBolt 场景应用

应用方向

可观察过程

适用问题

原位高温

纳米颗粒在升温过程中的边缘、表面纹理与成分衬度变化

识别退化起始温区与结构演变顺序

纳米材料烧结

颗粒融合、孔隙收缩和结构粗化

分析烧结动力学与形貌稳定性

材料退化

同一区域在多个温度节点的连续变化

区分形貌变化与成分衬度变化

电迁移与器件失效

电流与温度共同作用下的结构重构

定位失效起点并关联电学加载条件

 

实验案例 900 °C 下纳米颗粒退化

图片6.png 

Sr2FeMo0.65Ni0.35O6-δ 纳米颗粒在室温、600 °C 和 900 °C 下的 SE 与 BSE 图像

案例要素

资料记录

研究样品

Sr2FeMo0.65Ni0.35O6-δ 纳米颗粒

实验过程

在室温、600 °C 与 900 °C 连续采集 SE 和 BSE 图像

观察结果

升温过程中颗粒边缘、表面纹理及成分衬度持续变化;900 °C 时出现明显结构退化

研究价值

同一区域多温度节点对照,可判断退化起始温区,并区分形貌变化与成分衬度变化

 


HydroBolt 液相电化学原位

HydroBolt 是基于 MEMS 的体相电化学样品台,可在 Phenom XL 腔体内开展液相偏压实验。毫升级反应腔体内配置真实对电极和参比电极,并结合芯片工作电极,使电化学曲线能够与电极表面的形貌变化对应。

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HydroBolt 与 Phenom XL 联用实拍

HydroBolt 体相电化学样品台

HydroBolt 准确参数

项目

HydroBolt XL 联用配置

原位激励

液相;液相与偏压

电极体系

三电极体系:工作电极 WE、对电极 CE、参比电极 RE

工作电极

芯片上玻碳电极

外接电极

Pt 对电极;Ag AgCl 参比电极

液相模式

静态

溶液体系

水溶液或有机溶剂

装配方式

支持在手套箱内完成敏感样品装配

 


HydroBolt 场景应用

应用方向

可观察内容

研究价值

电沉积

不同电位和时间下的沉积形貌

将电位、时间与成核和沉积位置直接关联

枝晶生长

枝晶成核位置、生长方向和关键时间节点

为沉积机理与安全性研究提供图像证据

电极退化与腐蚀

溶解、腐蚀和表面重构

把电流电位变化与界面形貌变化联系起来

电催化与燃料电池

液相条件下催化材料和膜电极组件的动态变化

观察更接近真实反应条件下的界面过程

 

实验案例一 锌电沉积的实时观察

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Pt 工作电极表面 Zn 电沉积过程:t = 0.000 s 与 t = 53.673 s 的 SEM 图像及同步电化学响应

案例要素

资料记录

实验过程

在不同电位条件下记录 t = 0.000 s 与 t = 53.673 s 的 SEM 图像,并同步获取电化学响应

观察结果

工作电极表面从初始平整状态逐步形成可辨识的沉积结构,沉积位置与生长时间可直接追踪

研究价值

把电位和时间与成核位置、沉积形貌及枝晶生长联系起来,为沉积机理与安全性研究提供证据

 


实验案例二 真实三电极体系与快速装配

HydroBolt 通过芯片工作电极与外接对电极、参比电极组成三电极测量体系。密封结构可快速组装,并支持在手套箱内完成空气敏感样品装配。

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外接 Pt 对电极和 Ag AgCl 参比电极的装配实拍

片上电极方案与真实三电极方案的电化学曲线对比(原资料图)

项目

资料描述

电极体系

芯片工作电极配合外接 Pt 对电极和 Ag AgCl 参比电极,支持真实三电极测量

装配方式

密封结构可快速组装,并支持在手套箱中完成空气敏感样品装配

研究价值

相较仅使用片上电极的方案,可降低电位漂移风险,并便于开展更接近真实工况的电化学实验

 

推荐实验流程

· 明确外部刺激:根据问题选择加热、偏压、液相或液相加偏压。

· 确定时间与条件节点:预设温度、电位和成像时间点,保证同一区域可重复复访。

· 同步记录:连续采集 SEM 图像,并记录温度、电压或电化学响应。

· 建立关联:比较同一区域在各条件节点的形貌、衬度和界面变化。

· 需要时跨平台深入分析:使用通用 Nano-Chip 将样品转移至 TEM 平台开展进一步表征。


常见问题

Q1  Phenom XL 原位扫描电镜适合研究哪些动态过程?

答:适合观察材料在加热、偏压或液相电化学条件下发生的成核、生长、烧结、重构、退化、腐蚀、枝晶生长和器件失效等过程。

Q2  FireBolt 可以同时进行加热和偏压吗?

答:可以。资料明确说明 FireBolt 支持加热和或偏压加载。加热芯片温度范围为室温至 1300 °C;加热偏压芯片为室温至 900 °C。

Q3  FireBolt 的电压和电接触能力是多少?

答:电压范围为 -10 V 至 +10 V,*多提供 8 个电接触点。

Q4  HydroBolt 使用什么电极体系?

答:HydroBolt 使用三电极体系,包括芯片上玻碳工作电极、外接 Pt 对电极和 Ag AgCl 参比电极。

Q5  HydroBolt 能使用哪些液体?

答:资料列出的溶液体系为水溶液或有机溶剂,液相模式为静态。具体溶液与材料兼容性应在实验前按正式技术要求确认。

Q6  空气敏感样品能否装配?

答:HydroBolt 支持在手套箱内完成敏感样品装配。

Q7  能否把原位 SEM 结果与 TEM 结果关联?

答:可以。通用 Nano-Chip 支持加热与偏压样品在 SEM 与 TEM 平台之间转移,用于跨尺度关联分析。

Q8  这份产品页为什么没有列出 Phenom XL 主机分辨率等参数?

答:原资料未提供主机分辨率、探测器和真空系统等具体配置。相关主机参数应以正式配置单或技术协议为准,以避免不同配置之间的信息混用。

发布与选型说明

本产品详情中的 FireBolt、HydroBolt 参数和案例均来自所提供资料。涉及 Phenom XL 主机具体配置、可选探测器、软件版本、样品尺寸限制及现场安装条件时,应以供应商正式配置单、技术协议和**产品文件为准。


创新点

从静态观察到动态追踪,实现多物理场原位表征

飞纳 Phenom XL 台式原位扫描电镜创新性地将原位加热、电学偏压与液相电化学技术引入台式SEM,通过MEMS芯片实现材料在不同实验条件下的实时动态成像。突破传统电镜仅观察静态形貌的局限,可连续追踪材料成核、生长、结构演变及失效过程,并支持SEM/TEM跨平台关联分析,为材料科学、能源及半导体研究提供更灵活的原位表征方案。

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