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面议型号
磁性材料表面形貌Phenom Pharos G2品牌
飞纳产地
荷兰样本
暂无探测器：
背散射探测器、二次电子探测器加速电压：
1 kV - 20 kV 连续可调电子枪：
肖特基热场发射电子枪电子光学放大：
2,000,000 X光学放大：
27 - 160 X分辨率：
优于 1.5 nm复纳科技扫描电镜
复纳科技磁性材料表面形貌Phenom Pharos G2
国产扫描电镜
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Phenom Pharos G2 是一款台式场发射扫描电镜，可用于磁性材料的表面形貌及微观结构分析，帮助研究人员观察磁粉颗粒、晶粒形貌、表面缺陷及微纳尺度结构特征。
对于磁性材料研发和质量检测，材料的颗粒尺寸、表面形貌、团聚状态及局部缺陷等微观特征会对材料性能产生影响。Phenom Pharos G2 可提供高分辨率扫描电镜成像，为磁性材料的微观形貌观察和材料研发提供分析手段。
设备采用肖特基热场发射电子枪，电子光学放大倍数**可达 2,000,000×，分辨率优于 1.5 nm，适用于对精细结构、微纳尺度特征及高分辨形貌有较高要求的研发与检测场景。
Phenom Pharos G2 支持低、中、高三种真空模式，标配二次电子探测器和背散射电子探测器，可根据应用需求选配能谱探测器，实现样品形貌观察与元素成分分析。
设备采用肖特基热场发射电子枪，具有较高亮度，可满足材料微观结构及精细表面形貌的高分辨扫描电镜观察需求。
电子光学放大倍数**可达 2,000,000×，分辨率优于 1.5 nm，适用于纳米材料、磁性材料及其他功能材料的微纳结构观察。
加速电压支持 1 kV–20 kV 连续可调，可根据不同样品及成像需求选择合适的测试条件。
支持低真空、中真空和高真空三种工作模式，可根据样品特性和测试需求选择相应的真空条件。
设备标配二次电子探测器和背散射电子探测器，可根据实际应用需求选配能谱探测器，用于获取样品形貌及元素成分信息。
采用台式化设计，可应用于科研院所、高校实验室、企业研发中心及材料检测机构，满足日常研发、材料分析和质量检测需求。
Phenom Pharos G2 可应用于以下领域：
磁性材料表面形貌及微观结构分析
磁粉颗粒形貌与粒径观察
磁性材料表面缺陷及团聚状态分析
纳米材料与功能材料研发
半导体材料微观形貌观察
碳材料、催化剂及陶瓷材料分析
锂电材料及光伏材料研发
材料检测及企业质量控制
| 项目 | 参数 |
|---|---|
| 产品型号 | Phenom Pharos G2 |
| 产品名称 | Pharos 台式场发射电镜 |
| 产品类型 | 台式场发射扫描电镜 |
| 光学放大倍率 | 27–160× |
| 电子光学放大倍率 | ** 2,000,000× |
| 分辨率 | 优于 1.5 nm |
| 电子枪 | 肖特基热场发射电子枪 |
| 光学导航相机 | 彩色 |
| 加速电压 | 1 kV–20 kV 连续可调 |
| 真空模式 | 低真空 / 中真空 / 高真空 |
| 标配探测器 | 背散射电子探测器、二次电子探测器 |
| 可选探测器 | 能谱探测器 |
Phenom Pharos G2 适用于对高分辨微观形貌有较高要求的应用场景，可用于磁性材料、纳米材料、半导体、碳材料、催化剂、陶瓷、锂电材料及光伏材料等样品的微观结构和表面形貌观察。
可以。设备可用于观察磁粉颗粒的形貌、表面状态、团聚情况及其他微观结构特征，为磁性材料研发和质量检测提供形貌分析信息。
设备可根据应用需求选配能谱探测器，用于颗粒、异物或局部区域的元素成分分析，实现形貌与成分信息的综合分析。
产品价格根据设备配置、探测器选项及具体应用需求确定。用户可通过平台询价或留言提交样品类型和测试需求，获取相应的产品配置建议。
如需了解 Phenom Pharos G2 在磁性材料表面形貌分析中的应用方案、产品配置或相关资料，可通过平台询价或留言提交样品类型及测试需求，获取进一步的产品选型建议。
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