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双盘研磨抛光机
双盘研磨抛光机

参考价格

面议

型号

BN-YMP2A/YMP2B

品牌

BONA/铂纳

产地

沈阳

样本

暂无
沈阳铂纳科技有限公司

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第1年

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标签:

BONA/铂纳制样/消解设备

BONA/铂纳BN-YMP2A/YMP2B

国产制样/消解设备

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一、产品概述

本系列金相试样磨抛机是专为金相试样制备设计的专业设备,集粗磨、细磨、干磨、湿磨及抛光功能于一体。该系列机型外形新颖美观,采用加厚ABS塑料与钣金/吸塑工艺结合,经久耐用。设备均配备矢量变频器,支持无级调速、三档快速切换(B型支持自定义)、正反转调整及磨抛定时设定功能,广泛适用于各类实验室及工业制样场景。

核心区别说明

  • BN-YMP2A (双盘单变):左右两盘同步调速,速度一致。适合常规制样流程,性价比高。

  • BN-YMP2B (双盘双变):左右两盘独立调速,可设定不同转速。适合同时进行不同工序(如左盘研磨、右盘抛光)的高效作业,且**转速更高。


二、详细产品介绍

1. BN-YMP2A 型 (双盘单变)

  • 结构工艺:集污盘和外壳采用加厚ABS塑料注塑工艺整体制成;底盘采用4MM加厚钣金。

  • 调速特性:

    • 转速范围:50 - 1000 r/min。

    • 控制模式:左右两盘速度同步调整。

    • 功能:高/中/低三档快速切换、无级调速、正反转、定时设定。

  • 适用场景:标准金相制样,对双盘速度一致性要求较高的场景。

2. BN-YMP2B 型 (双盘双变)

  • 结构工艺:集污盘和外壳采用加厚ABS塑料吸塑工艺整体制成;壳体表面均采用汽车喷涂工艺4层漆面处理。

  • 调速特性:

    • 转速范围:50 - 1500 r/min (动力更强劲)。

    • 控制模式:左右两盘速度独立调整,可设定不同速度。

    • 功能:高/中/低三档快速切换 (三档速度可自定义)、无级调速、正反转、定时设定。

  • 适用场景:高效率制样需求,需同时进行不同速度工序,或对高转速有特殊要求的场景。


三、通用产品特点

两款机型均具备以下优良特性:

  1. 外观耐用:外壳抗污易打理,维护保养方便。

  2. 核心电机:采用全铜线圈电机,转动平稳、噪音低、寿命长。

  3. 优质水路:水笼头采用全铜材质,手感好,不生锈。

  4. 制样高效:盘径大 (230mm),跳动度小,制样效果好。

  5. 智能控制:矢量变频器提供充足动力,适应不同材料的速度需求。


四、技术参数对比表

参数项目BN-YMP2A (双盘单变)BN-YMP2B (双盘双变)
产品型号BN-YMP2ABN-YMP2B
盘径尺寸研磨/抛光盘直径:230mm研磨/抛光盘直径:230mm
转速范围50 - 1000 r/min (无级调速)50 - 1500 r/min (无级调速)
速度控制双盘同步 (相同速度)双盘独立 (可不同速度)
档位功能高/中/低三档切换高/中/低三档切换 (支持自定义)
电机功率1200W1200W
电源电压AC 220V, 50HzAC 220V, 50Hz
外形尺寸670 × 740 × 310 mm670 × 740 × 310 mm
整机净重42 KG48 KG


五、选型建议

  • 若您的实验室主要进行常规制样,且不需要左右盘同时以不同速度工作,BN-YMP2A 是经济实用的选择。

  • 若您需要提高制样效率(例如一人同时操作两个不同工序),或者处理硬质材料需要更高的转速(>1000 r/min),BN-YMP2B 的独立变速和高转速功能将显著提升工作效率。


创新点

BN-YMP2A/B系列双盘金相磨抛机,盘径230mm,支持干湿磨抛。A型双盘同步调速(50-1000转),B型双盘独立变速(50-1500转)。均配全铜电机、矢量变频及定时功能,操作简便,制样高效,是金相实验室的理想选择。

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