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C2GR16-气相沉积炉
C2GR16-气相沉积炉

参考价格

面议

型号

VHCgr-20/20/30-1600

品牌

皓越科技

产地

上海

样本

暂无
上海皓越真空设备有限公司

金牌会员

|

第8年

|

生产商

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核心参数
  • 非金属电热元件:

    其他
  • 金属电热元件:

    其他
  • 烧结气氛:

    真空
  • 温控精度:

    -
  • 最高温度:

    1600℃
  • 额定温度:

    -
标签:

皓越科技粉体焙烧炉

皓越科技VHCgr-20/20/30-1600

国产粉体焙烧炉

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一、C2GR16-气相沉积炉基本原理与特点
1.基本原理:
热诱导化学气相沉积(英语:chemical vapor deposition ,CVD)是用于各种电介质,半导体和金属材料的保护涂层的沉积的有力方式,无论是单晶,多晶,无定形或外延状态上或大或小的形态。典型的涂层材料包括热解碳,碳化硅,氮化硼。通过使用合成前体,涂层非常纯净并目满足半导体工业的典型要求,根据工艺参数,可以有多种层厚度,从单个或几个原子层到厚度从10纳米到数百微米的固体保护层或功能层,以及厚度达100微米的单片部件,甚至高达数毫米
2.设备特点:
(1)采用卧式、侧开门结构,装、卸料精度高,操作方便;
(2)采用优良的控制技术,能精密控制MTS的流量和压力,炉膛内沉积气流稳定,压力波动范围小;
(3)温度均匀性好,平均温度均匀性为±5℃;
(4)采用多通道沉积气路,流场均匀,无沉积死角,沉积效果好;
(5)全封闭沉积室,密封效果好,抗污染能力强;
(6)安全性能好,采用HMI+PLC+PID程序控制,安全可靠;
(7)对沉积产生的高腐蚀性尾气、易燃易爆气体、固体粉尘及低熔点粘性产物能进行有效处理;
(8)多级高效尾气处理系统,环境友好,能高效收集焦油及副产物,易清理;
(9)采用设计防腐蚀真空机组,持续工作时间长,维修率极低。
二、C2GR16-气相沉积炉主要技术参数:

1编号C2GR16
2产品型号VHCgr-20/20/30-1600
3**设计温度(℃)1600
4加热元件等静压石墨
5加热功率(kW)45
6冷态极限真空度(Pa)6.7x10-3Pa(空炉、冷态、经净化)
7测温元件钨铼热电偶
8升温速率1~20℃/min
9温度均匀性±5℃(5点测温,恒温区1000℃保温1h后检测)
10炉膛尺寸(mm)200x200x300(WxHxD)
11可通入气氛1路CH3SiCI3、1路氨气、1路氢气、1路氮气
12气氛流量计4路质量流量计
13设备外形尺寸(mm)1425x1550x1850mm(LxWxH)

 















三、化学气相沉积炉(CVD气相沉积炉)产品展示图:

ScreenShot_2026-06-01_151543_831.png

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