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CVD管式炉
CVD管式炉

参考价格

10-20万元

型号

HTF1200-5/20-4F-HV

品牌

皓越科技

产地

上海

样本

暂无
上海皓越电炉技术有限公司

会员

|

第6年

|

生产商

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核心参数
  • 适用物料:

    多种可用
  • 操作方式:

    间歇式
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产品应用

    高真空CVD系统是一款专业在沉底材料上生长高质量石墨烯、碳纳米管、碳化硅的专用设备,广泛应用于在半导体、纳米材料、碳纤维、碳化硅、镀膜等新材料新工艺领域。

产品特点

高真空CVD系统主要由高温腔体、石英管、石英支架、气路系统、分子泵机组、自动化控制系统、冷却系统等组成。

1、沉底材料可采用铜箔、石墨等;

2、生长腔体采用进口高纯石英管,配石英支架、为石墨烯等材料的生长提供洁净环境;

3、炉膛采用进口高纯氧化铝多晶体纤维,不易掉粉、寿命长且保温性能好。加热丝采用优质掺钼铁铬铝合金加热丝,温场均匀,能耗低;

4、密封法兰均采用不锈钢材质,配水冷套,可连续长时间工作;

5、气路系统采用两路质量流量计(可拓展多路),配预混系统;

6、气体种类: He/Ar、C2H2、NH3、N2, H2、PH3、GeH4、B2H6;

7、温度、气体、真空、冷却水等通过PLC控制,通过PC实时控制和显示相关的实验参数,自动保存实验参数,也可采用手动控制;

8、系统采用集成化设计,控制系统、混气罐、质量流量计等均内置在箱体内部,占地面积小。整体安装四个可移动轮子,方便整体移动。


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1.77MB 2018-08-17
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10分

售后服务

10分

易用性

10分

性价比

10分
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