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一、应 用 范 围
化妆品防晒霜,抗紫外线剂,纺织品抗紫外线。
二、建议用量
产品应用范围广泛,对于不同使用场合添加量差异较大,从0.5-20%,使用者应通过试验测试确定用量,或与本公司联系。


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随着半导体制程向5nm、3nm先进节点演进,CMP(化学机械抛光)作为实现晶圆全局平坦化的唯一核心工艺,其效率直接决定产能与良率。无论是半导体晶圆、光学元件,还是金属精密部件抛光,研发与生产端都在追求
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DXN-HQF30/HF30S 是达西浓纳米科技(常州)有限公司研发的一款纳米无机金属氧化物基抗菌消臭整理剂,专为纺织品、鞋材、家纺等领域打造,核心解决氨气、异戊酸等汗臭、老年味根源问题,实现源头分解
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