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真空电弧离子镀膜的原理是基于冷阴极自持弧光放电等离子体蒸发、电离镀料,结合脉冲偏压技术,提高沉积粒子能量和活性,增强膜层的各项性能。它不仅能在金属制品表面进行镀膜而且能在非金属制品表面上进行镀膜;
技术参数
真空室尺寸 | DK-1200×1500mm | DK-1400×1600mm | DK-1600×1800mm | DK-1800×1950mm | 2000×1950mm |
制膜种类 | 半透明膜、金、银、红、蓝、绿、灰、黑、七彩等多种颜色 | ||||
电源类型 | 电阻加热钨丝蒸发变压器电源、高压离子轰击电源、可控硅电源 | ||||
真空室结构 | 立式双开门、立式单开门、卧式单开门、抽气系统 | ||||
真空系统 | 机械泵+罗茨泵+扩散泵/分子泵+维持泵(或选配:深冷系统) | ||||
极限真空 | 8×10-4 pa(空载、净室) | ||||
抽气时间 | 空载大气抽至5×10-2pa小于6分钟 | ||||
工件旋转方式 | 6轴/8轴/14轴公自转/变频无级调速 | ||||
控制方式 | 手动+半自动+全自动一体化/触摸屏+PLC | ||||
备注 | 真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做 |
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