产品概述

真空烤盘炉（Bake炉）是MOCVD（金属有机化学气相沉积）关键配合工艺装备，专用于清除石墨载盘（碳化硅涂层）表面残留的氮化镓（GaN）、砷化镓（GaAs）、磷化铟（InP）等化合物杂质。通过高温真空技术，可实现载盘表面污染物的高效分解与蒸发，恢复石墨载盘的洁净度，延长使用寿命，降低LED、射频芯片、激光器等半导体制造企业的耗材成本。

核心功能与技术优势

■ 高产能

¨ 有效工作区域达到710X710X1600mm,适用于

MOCVD各种石墨盘的清理。

¨ 采用高强度石墨板，可承载更多产品。

¨ 降低单位产品的能源消耗。

■ 温度、气流均匀

¨ 独特的上下两区控温设计，整炉温度均一

性达到 ≤±3℃。

¨ 优化设计的进气系统，保证气流流动更均

匀。

¨ 均匀的热场和气流同时协作，保证石墨盘

清理更均匀，干净。

■ 高配置

¨ 采用日本原装进口石墨硬毡，挥发物更少，

烘烤气氛更纯净。

¨ 美国热电偶，日本质量流量计，真空计等。

¨ 全面革新的温控系统，人机界面。

核心应用场景

LED芯片制造

· GaN基LED外延片：蓝光/白光LED生产后石墨托盘去污；

· Micro-LED产线：高精度载盘维护，保障微米级外延均匀性。

化合物半导体制造

· 射频器件（GaAs）：5G基站放大器、毫米波芯片载盘再生；

· 光通信激光器（InP）：DFB/EML激光器外延托盘清洗。

研发与代工服务

· 半导体研究院所、晶圆代工厂的MOCVD设备配套维护；

· 第三代半导体（SiC、GaN）功率器件产线耗材管理。

 联系方式：邹先生，13567******