化学机械抛光

推荐半导体界的“抛光王者”：二氧化硅如何提升晶圆的平整度？

中国粉体网讯 随着半导体器件集成度的不断提升，电子产品的表面平整度、厚度均匀性及工艺可靠性要求日益严格。晶圆表面极其微小的不平整都可能导致电路短路、信号延迟甚至器件失效，对产品性能和产品良率产生深远影响。在这一背景下，化学机[更多]

资讯 二氧化硅基抛光液二氧化硅化学机械抛光半导体抛光液
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