修整

推荐抛光垫想要用得久，就得这么干！

中国粉体网讯 CMP通过化学试剂的氧化腐蚀和磨料的机械磨损协同作用来达到纳米级别的去除，获得相对质量良好，少损伤或者无损伤的表面。工件在CMP过程中通过夹具被固定，抛光垫表面接触，抛光垫与抛光盘刚性连接并以特定的转速围绕主轴[更多]