CMP

推荐百科：化学机械抛光中的抛光液

中国粉体网讯 化学机械抛光（CMP）技术最早由Monsanto在1965年提出来的。该技术最初是为了获得高质量的玻璃原件表面，使用较软的材料作为磨料来缓慢研磨玻璃表面，使其逐渐变光滑。目前CMP技术作为一种对元件表面超精密加[更多]

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