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高纯锆(Zr)靶材 99.9%
高纯锆(Zr)靶材 99.9%

参考价格

1万元以下

型号

φ50.8*3mm

品牌

金源新材

产地

北京

样本

暂无
北京金源新材科技有限公司

会员

|

第1年

|

生产商

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核心参数
  • 纯度:

    99.9%
  • 目数:

    φ50.8*3mm
标签:

其它金属粉

φ50.8*3mm

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金属锆溅射靶材(Zirconium Sputtering Target,Zr 靶)高纯金属锆溅射靶材,用于磁控溅射沉积金属锆薄膜、氮化锆、氧化锆功能薄膜,原料纯度 99.99%(4N)。高纯锆坯经真空熔炼、锻造、精密机加工制成,致密度高,晶粒均匀。 属于导电金属靶,推荐 DC 直流磁控溅射,可通入氮气 / 氧气做反应溅射制备 ZrN、ZrO₂薄膜。锆薄膜耐高温、耐酸碱腐蚀,热稳定性优异,低中子吸收截面。可加工圆形、矩形、环形等规格;可绑定铜背板,改善导热性能,缓冲溅射热应力。

典型用途:材料薄膜基础研究、半导体金属阻挡层、ZrN 硬质耐磨涂层、耐腐蚀防护膜、光学涂层、生物医用薄膜、高温功能薄膜。

参数表

  • 材质:金属锆 Zr

  • 纯度:99.99%(4N,也可提供 3N5、4N5)

  • 理论密度:6.49 g/cm³

  • 熔点:1852 ℃

  • 形态:圆片、矩形、环形,异形可定制

  • 可选服务:铜背板绑定、精密机加工

  • 溅射方式:DC 直流磁控溅射


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