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湿法大板材增透镀膜，适配光学、光通信、半导体多领域基板简户仪器纳米二氧化硅
简户仪器JR-016
国产纳米二氧化硅
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湿法大板材增透镀膜是针对大尺寸光学基板开发的量产型湿式光学镀膜工艺及材料系统，区别于传统真空蒸镀设备尺寸受限、成本高、效率低的痛点，通过液相涂布+精准固化工艺，实现大面积玻璃、石英、光学树脂、半导体盖板等基板的均匀增透镀膜。产品可有效降低基板表面反射率、提升透光率、消除眩光与重影，膜层一致性好、良率高、适配性广，广泛应用于精密光学、光通信器件、半导体封装、光电显示、工业传感等领域的大尺寸板材批量生产。
采用自主优化的大板面湿法匀涂与精准固化技术，突破传统真空镀膜尺寸受限、产能低、成本高的行业瓶颈，实现大尺寸光学基板全域均匀宽波段增透镀膜，兼顾多基材适配性、高光学精度与规模化量产能力，可高效满足光学、光通信、半导体多领域高端基板的批量提质降本需求。
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