首页 > 分离过滤 > 过滤器 >
美国 PALL 颇尔 Profile® II CMP用深度过滤器 半导体抛光浆料
美国 PALL 颇尔 Profile® II CMP用深度过滤器 半导体抛光浆料

参考价格

1万元以下

型号

Profile® II

品牌

产地

美国

样本

暂无
深圳森泽工业品有限公司

金牌会员

|

第1年

|

代理商

工商已核实

留言询价
核心参数
  • 生产能力(kg/h):

    1~3m³/h
  • 适用物料:

    CMP浆料
  • 过滤面积(c㎡):

    40
  • 工作原理:

    其他
  • 自动化程度:

    其他
  • 性能:

    精密过滤
  • 滤料类型:

    其他
  • 样式:

    管式
标签:

森泽过滤器

森泽Profile® II

国产过滤器

同类推荐

看了美国 PALL 颇尔 Profile® II CMP用深度过滤器 半导体抛光浆料的用户又看了

产品介绍
创新点
相关方案
相关资料
用户评论
公司动态
问商家
留言询价
×

*留言类型

*留言内容

*联系人

*单位名称

*电子邮箱

*手机号

提交
点击提交代表您同意 《用户服务协议》《隐私协议》

咨询美国 PALL 颇尔 Profile® II CMP用深度过滤器 半导体抛光浆料

使用微信扫码拨号

中国粉体网认证电话,请放心拨打
×
是否已沟通完成
您还可以选择留下联系电话,等待商家与您联系

需求描述

单位名称

联系人

联系电话

Email

已与商家取得联系
同意发送给商家
产品介绍
创新点
相关方案
相关资料
用户评论
公司动态
问商家

image.png

用于CMP工艺过滤的高效深度过滤器

用于化学机械抛光工艺的Profile II型深度过滤滤芯,能够有效去除氧化物、钨和铜浆料中的聚集颗粒及凝胶,同时不会扰乱颗粒的分布状态。这类滤芯具有极高的过滤效率,因此几乎不会带走那些有用的浆料颗粒,同时却能大幅减少超大颗粒的残留。

为何选择CMP深度过滤滤芯?

这类深度过滤器的过滤精度可在0.2微米到40微米之间,其过滤精度是传统深度过滤器的5到10倍。此外,它们还拥有均匀分布的孔结构,从而可实现预过滤功能。


全新滤芯结构与过滤机制

滤芯外侧部分(锥形孔结构→延长过滤寿命)

该部分孔径随向内延伸而逐渐减小,从而实现高效预过滤;凭借连续的孔径变化与深度过滤效应,可显著延长过滤寿命

滤芯内侧部分(恒定孔径结构→可靠过滤)

该部分孔径保持恒定且均匀,可实现精准过滤。


材质

过滤介质聚丙烯(Polypropylene)
支撑芯聚丙烯(Polypropylene)
端盖、外笼(MCY、AB 系列)聚丙烯(Polypropylene)
端封(RMF 系列)桑普雷恩(Santoprene)¹

¹ 桑普雷恩(Santoprene)为埃克森美孚化工公司商标


适用外壳

RF 系列请使用 R 系列外壳
MCY 系列请使用 M 系列外壳
RMF 系列请使用 M 系列外壳
AB 系列请使用相同 O 型圈规格的 A 系列外壳。规格 20 可在线进行蒸汽灭菌

(注)在 40℃以上高温条件下使用时,请与各营业所咨询。


特点与优势 

■ 具备额定过滤精度 

■ 无滤材转移或剥离现象

■ 低压降 

■ 无异物泄漏 

■ 高集尘能力

■ 广泛的流体适用性


规格

耐压差

0.41 MPa(约 30 ℃)

0.34 MPa(约 50 ℃)

0.21 MPa(约 70 ℃)

0.10 MPa(约 82 ℃)

使用温度MAX 82 ℃


image.png

创新点

外层大孔径完成预过滤,内层稳定孔径执行精密拦截,一支滤芯实现多级过滤,提升滤芯使用寿命。

相关方案
日本 N.M.R FT 型 7×19 微型不锈钢钢丝绳|精密仪器微型传动钢缆解决方案

工况痛点精密仪器、小型自动化滑台、光学平台、检测设备微型传动常遇到:往复高频弯折,普通微索易疲劳断丝、寿命短外径公差差、股丝不均,传动间隙大、定位不稳防锈差,潮湿 / 微量腐蚀环境容易锈损卡死柔性不足

钢铁/金属

2026-08-18

日本 Micro-tec ESC-500 静电夹具专用丝网印刷机|半导体静电卡盘 ESC 电极精密印刷方案

一、工艺痛点静电卡盘(ESC)制造中,陶瓷生片电极印刷常见难点:大尺寸生瓷片薄、易形变,普通真空吸附易造成薄片翘曲、对位偏移电极层厚度不均、离模拉扯导致线条毛刺、断线,直接影响静电吸附均匀性浆料(导电

电子/通讯

2026-08-18

日本 BISO A-1301B 中型滚筒式磨头更换机|珠宝贵金属首饰批量抛光解决方案

一、工艺痛点贵金属首饰滚筒抛光工序常见难题:频繁抛光工况下,磨料 / 磨头损耗快,传统机型拆装更换耗时,停机久、产能低金银软质贵金属易过抛、边角塌边,转速与翻滚状态不好管控,成品光泽不均小件戒指、吊坠

钢铁/金属

2026-08-18

日本中工精机 BM 型 卧式湿式球磨机|陶瓷、电池粉体超细研磨分散解决方案

一、工艺痛点电池正极 / 负极粉体、精细陶瓷浆料湿法研磨常见难题:粉体团聚严重,单纯搅拌无法一次解聚,成品粒径分布宽,一致性差金属杂质管控严苛,普通球磨机内衬、介质磨损易引入污染,影响电池循环、陶瓷绝

电池/电源

2026-08-18

相关资料
暂无数据。
公司动态
暂无数据!
技术文章
日本 IWAKI 易威奇 EWN-W 型水质控制电磁定量泵|CMP 抛光浆液药剂精准投加

日本 IWAKI 易威奇 EWN-W 型水质控制电磁定量泵|CMP 抛光浆液药剂精准投加半导体 CMP 抛光工艺需要稳定、精准投加氧化剂、pH 调节剂、分散剂等各类药剂,药剂投加波动直接影响抛光速率、

日本CEMCO TCMD数字式化学混合机 ——CMP抛光浆液精准搅拌的理想之选

日本CEMCO TCMD数字式化学混合机——CMP抛光浆液精准搅拌的理想之选一、引言:CMP抛光工艺与浆液搅拌的技术挑战化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing,简称C

无需稀释在线监控 CMP 浆料粗大颗粒|日本 RION MR-S1 浆料监测系统

无需稀释在线监控 CMP 浆料粗大颗粒|日本 RION MR-S1 浆料监测系统半导体先进制程 CMP 工艺中,抛光液内少量粗大颗粒极易造成晶圆表面划痕缺陷,离线实验室检测存在严重滞后。日本RION

用户评论
发评论
暂无评论!
问商家
  • 美国 PALL 颇尔 Profile® II CMP用深度过滤器 半导体抛光浆料的工作原理介绍?
  • 美国 PALL 颇尔 Profile® II CMP用深度过滤器 半导体抛光浆料的使用方法?
  • 美国 PALL 颇尔 Profile® II CMP用深度过滤器 半导体抛光浆料多少钱一台?
  • 美国 PALL 颇尔 Profile® II CMP用深度过滤器 半导体抛光浆料的说明书有吗?
  • 美国 PALL 颇尔 Profile® II CMP用深度过滤器 半导体抛光浆料的报价含票含运费吗?
  • 美国 PALL 颇尔 Profile® II CMP用深度过滤器 半导体抛光浆料有现货吗?
  • 0有办事机构吗?
  • 0销售电话是多少?
美国 PALL 颇尔 Profile® II CMP用深度过滤器 半导体抛光浆料信息由深圳森泽工业品有限公司为您提供,如您想了解更多关于美国 PALL 颇尔 Profile® II CMP用深度过滤器 半导体抛光浆料报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
  • 推荐分类
  • 同类产品
  • 该厂商产品
  • 相关厂商
  • 推荐品牌
免费
咨询
手机站
二维码