首页 > 粉体测试设备 > 其他测试设备 >
芬兰 VAISALA 维萨拉 Polaris™ PR53S 半导体在线折光仪 CMP抛光液
芬兰 VAISALA 维萨拉 Polaris™ PR53S 半导体在线折光仪 CMP抛光液

参考价格

1万元以下

型号

Polaris™ PR53S

品牌

产地

芬兰

样本

暂无
深圳森泽工业品有限公司

金牌会员

|

第1年

|

代理商

工商已核实

留言询价
核心参数
  • 误差率:

    ≤±1.8%
  • 分辨率:

    0.1%
  • 重现性:

    ≤±1.2%
  • 分散方式:

    红外辐射加热 + 样品平铺受热均匀分散
  • 测量时间:

    0‑99min可调
  • 测量范围:

    湿基 0~100%、干基 0~500%,称量 0.5-120g
标签:

森泽其他测试设备

森泽Polaris™ PR53S

国产其他测试设备

产品介绍
创新点
相关方案
相关资料
用户评论
公司动态
问商家
留言询价
×

*留言类型

*留言内容

*联系人

*单位名称

*电子邮箱

*手机号

提交
点击提交代表您同意 《用户服务协议》《隐私协议》

咨询芬兰 VAISALA 维萨拉 Polaris™ PR53S 半导体在线折光仪 CMP抛光液

使用微信扫码拨号

中国粉体网认证电话,请放心拨打
×
是否已沟通完成
您还可以选择留下联系电话,等待商家与您联系

需求描述

单位名称

联系人

联系电话

Email

已与商家取得联系
同意发送给商家
产品介绍
创新点
相关方案
相关资料
用户评论
公司动态
问商家

image.png

维萨拉 Polaris™ PR53S 半导体在线折光仪


用于半导体湿法工艺的实时在线化学浓度测量

维萨拉 Polaris™ PR53S 是一款紧凑型在线折光仪,专为半导体液体化学应用设计。其改良的 PTFE 流通池和 ¼-1 英寸 Pillar 或 Flare 式连接,可实现与湿法机台、化学分配系统及工艺工具在混合、清洗、蚀刻和 CMP 步骤中的无缝集成。

PR53S 可在洁净室环境和集成工艺工具中持续实时测量化学浓度,帮助在多个阶段实现精准的工艺控制。

凭借高度准确、可靠且可重复的测量,PR53S 能够通过在线折射率测量,替代在批量分配、混合和使用点监测等环节中使用的复杂且昂贵的分析仪。


为要求严苛的化学品和研磨液提供稳定一致的化学控制

可对多种化学品进行准确测量,包括要求严苛的研磨液应用。即使存在气泡、颗粒或晶体,也能保持可靠性能,确保在实际工艺中提供稳定、可信的数据。

Polaris PR53S 非常适合精细化工和半导体行业中的化学品混合与监测,传承了维萨拉 K-PATENTS® 在线折光仪系列 40 余年的创新成果。作为新一代 PR53 系列的一部分,它为现代工艺环境带来了更高的分辨率和更佳的兼容性。

image.png

image.png


适用于维萨拉 Polaris™ 在线折光仪的 Indigo80

使用 Indigo80 无需停机即可配置和校准探头,记录各个探头的数据用于快速诊断,并轻松识别潜在的维护需求。


Insight 电脑软件

使用免费的 Insight 软件,即可从电脑桌面访问您的仪表、校准 PR53S,并下载新的化学曲线。

image.png


测量性能

精度依据校准参考标准规定,包含非线性、滞后误差,测试环境:+20 ℃(+68 ℉)

折射率
测量范围1.32–1.53 nD(对应 0–100 °Bx)
精度±0.0002 nD(0.1 °Bx)
重复性(置信系数 k=2,包含随机噪声,环境温度 Ta=+20 ℃(+68 ℉),启用标准低通滤波)±0.0000033 nD
分辨率±0.000001 nD
默认阻尼下响应时间 T₆₃10 s(启用标准低通滤波)
测量周期1 次 / 秒
长期稳定性MAX  0.1 % 满量程 / 年
温度
+20 ℃(+68 ℉) 条件下精度±0.3 ℃(0.54 ℉)
传感器等级F0.15 IEC 60751
温度系数±0.002 ℃/℃


运行环境

工艺参数

工艺温度-20 … +85 ℃(-4 … +185 ℉)
压力20 ℃时:10 bar;130 ℃时:4.5 bar(68 ℉:145 psi;266 ℉:652 psi)
使用环境

储存温度-40 … +65 ℃(-40 … +149 ℉)
工作温度-20 … +45 ℃(-4 … +113 ℉)
工作海拔MAX 2000 m(约 6500 ft)
工作湿度0–100 %RH
储存湿度0–100 % RH,无冷凝
防护等级IP66、IP67

机械规格

接触介质部件

棱镜与蓝宝石平板单晶蓝宝石,99.996 % 氧化铝 Al₂O₃ ¹)
流通池超纯 PTFE ¹)
棱镜密封垫片改性 PTFE ¹)
工艺密封垫片 20.2 × 3 mm(0.8 × 0.1 in)Kalrez W240UP ¹)
非接触介质部件

外壳PVDF
接头不锈钢
电缆PEX 或 FEP
合规认证

电磁兼容(EMC)EN 61326-1,工业环境FCC part 15 B,B 类CAN ICES-3(B)/NMB-3(B)
合规标识CE、中国 RoHS、KC
振动与冲击依据 IEC 60068-2 标准测试


输入与输出

供电额定工作电压24 V DC(范围 9–30 V DC)
功耗<1 W
防护等级3,PELV
过电压类别I
输出输出参数折射率、温度、浓度、品质系数
模拟输出电流信号源型输出、隔离型,符合 NAMUR NE 43,可配置
电流范围3.8–20.5 mA
负载MAX 600 Ω
+20 ℃模拟输出精度±0.1 % 满量程(±0.0002 RI)
支持协议HART 7
输出参数浓度
数字输出数字接口RS-485,非隔离
线缆长度MAX 300 m(约 1000 ft,数字信号)
支持协议Modbus RTU
连接器外部接头

1 × M12 8 针 A 编码公头可搭配转接器

1 × M12 4 针 A 编码公头连接 USB2、Indigo80 需选配转接线缆

USB2 转接器搭配 Insight 软件使用


校准配件

验证套件(折射率:1.33, 1.37, 1.42, 1.47, 1.52)280380SP
校准套件(折射率:1.32, 1.33, 1.35, 1.36, 1.37, 1.38, 1.40, 1.42, 1.45, 1.47, 1.50, 1.52, 1.53, 1.57)278292SP

配件名称编码
维萨拉 Insight 电脑软件 USB 转接器USB2
M12 4 针转 8 针转接电缆CBL211714
5 m(16.5 ft)M12 开放式线缆278421
10 m(33 ft)M12 开放式线缆285771
1/4 英寸 扩口式接头流通池本体F2-025-TM
3/8 英寸 扩口式接头流通池本体F2-038-TM
1/2 英寸 扩口式接头流通池本体F2-050-TM
3/4 英寸 扩口式接头流通池本体F2-075-TM
1 英寸 扩口式接头流通池本体F2-100-TM
1/4 英寸 立柱式接头流通池本体P2-025-TM
3/8 英寸 立柱式接头流通池本体P2-038-TM
1/2 英寸 立柱式接头流通池本体P2-050-TM
3/4 英寸 立柱式接头流通池本体P2-075-TM
1 英寸 立柱式接头流通池本体P2-100-TM


创新点

高纯改良 PTFE 流通池,搭配半导体专用 Pillar/Flare 接头,减少析出污染,适配无尘车间严苛洁净规范。

相关方案
日本 N.M.R FT 型 7×19 微型不锈钢钢丝绳|精密仪器微型传动钢缆解决方案

工况痛点精密仪器、小型自动化滑台、光学平台、检测设备微型传动常遇到:往复高频弯折,普通微索易疲劳断丝、寿命短外径公差差、股丝不均,传动间隙大、定位不稳防锈差,潮湿 / 微量腐蚀环境容易锈损卡死柔性不足

钢铁/金属

2026-08-18

日本 Micro-tec ESC-500 静电夹具专用丝网印刷机|半导体静电卡盘 ESC 电极精密印刷方案

一、工艺痛点静电卡盘(ESC)制造中,陶瓷生片电极印刷常见难点:大尺寸生瓷片薄、易形变,普通真空吸附易造成薄片翘曲、对位偏移电极层厚度不均、离模拉扯导致线条毛刺、断线,直接影响静电吸附均匀性浆料(导电

电子/通讯

2026-08-18

日本 BISO A-1301B 中型滚筒式磨头更换机|珠宝贵金属首饰批量抛光解决方案

一、工艺痛点贵金属首饰滚筒抛光工序常见难题:频繁抛光工况下,磨料 / 磨头损耗快,传统机型拆装更换耗时,停机久、产能低金银软质贵金属易过抛、边角塌边,转速与翻滚状态不好管控,成品光泽不均小件戒指、吊坠

钢铁/金属

2026-08-18

日本中工精机 BM 型 卧式湿式球磨机|陶瓷、电池粉体超细研磨分散解决方案

一、工艺痛点电池正极 / 负极粉体、精细陶瓷浆料湿法研磨常见难题:粉体团聚严重,单纯搅拌无法一次解聚,成品粒径分布宽,一致性差金属杂质管控严苛,普通球磨机内衬、介质磨损易引入污染,影响电池循环、陶瓷绝

电池/电源

2026-08-18

相关资料
暂无数据。
公司动态
暂无数据!
技术文章
日本 IWAKI 易威奇 EWN-W 型水质控制电磁定量泵|CMP 抛光浆液药剂精准投加

日本 IWAKI 易威奇 EWN-W 型水质控制电磁定量泵|CMP 抛光浆液药剂精准投加半导体 CMP 抛光工艺需要稳定、精准投加氧化剂、pH 调节剂、分散剂等各类药剂,药剂投加波动直接影响抛光速率、

日本CEMCO TCMD数字式化学混合机 ——CMP抛光浆液精准搅拌的理想之选

日本CEMCO TCMD数字式化学混合机——CMP抛光浆液精准搅拌的理想之选一、引言:CMP抛光工艺与浆液搅拌的技术挑战化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing,简称C

无需稀释在线监控 CMP 浆料粗大颗粒|日本 RION MR-S1 浆料监测系统

无需稀释在线监控 CMP 浆料粗大颗粒|日本 RION MR-S1 浆料监测系统半导体先进制程 CMP 工艺中,抛光液内少量粗大颗粒极易造成晶圆表面划痕缺陷,离线实验室检测存在严重滞后。日本RION

用户评论
发评论
暂无评论!
问商家
  • 芬兰 VAISALA 维萨拉 Polaris™ PR53S 半导体在线折光仪 CMP抛光液的工作原理介绍?
  • 芬兰 VAISALA 维萨拉 Polaris™ PR53S 半导体在线折光仪 CMP抛光液的使用方法?
  • 芬兰 VAISALA 维萨拉 Polaris™ PR53S 半导体在线折光仪 CMP抛光液多少钱一台?
  • 芬兰 VAISALA 维萨拉 Polaris™ PR53S 半导体在线折光仪 CMP抛光液的说明书有吗?
  • 芬兰 VAISALA 维萨拉 Polaris™ PR53S 半导体在线折光仪 CMP抛光液的报价含票含运费吗?
  • 芬兰 VAISALA 维萨拉 Polaris™ PR53S 半导体在线折光仪 CMP抛光液有现货吗?
  • 0有办事机构吗?
  • 0销售电话是多少?
芬兰 VAISALA 维萨拉 Polaris™ PR53S 半导体在线折光仪 CMP抛光液信息由深圳森泽工业品有限公司为您提供,如您想了解更多关于芬兰 VAISALA 维萨拉 Polaris™ PR53S 半导体在线折光仪 CMP抛光液报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
  • 推荐分类
  • 同类产品
  • 该厂商产品
  • 相关厂商
  • 推荐品牌
免费
咨询
手机站
二维码