晶圆光刻胶烘箱厂家推荐——认准：上海简户仪器

晶圆光刻胶烘箱｜2‑12 寸晶圆光刻胶烘烤固化设备厂家推荐——认准：上海简户仪器

产品介绍

晶圆光刻胶烘箱专门针对硅片晶圆光刻工艺设计，适配 2 寸‑12 寸晶圆载具、晶舟，完成晶圆表面光刻胶软烘、坚膜、PSPI 固化，严格控制温场均匀性、腔内颗粒，避免晶圆胶层偏移、颗粒缺陷、线宽偏差，广泛用于晶圆研发和批量生产。

产地

产地：中国上海，上海简户仪器设备有限公司原厂制造，支持晶圆载具配套定制。

产品特点

1、腔体内部适配标准晶圆晶舟、托盘，兼容 2‑12 寸硅晶圆； 2、无风静置烘烤模式，避免气流扰动造成晶圆光刻胶图形偏移； 3、SUS316L 镜面满焊内胆，高效过滤，控制腔内颗粒； 4、高精度 PID 多段程序控温，保证整片晶圆温度均匀； 5、可选高纯氮气置换，降低氧含量，防止光刻胶氧化； 6、数据记录追溯，支持 MES 对接，满足晶圆厂管控； 7、安全门联锁、超温切断，保护昂贵晶圆工件。

应用领域

硅基晶圆加工、芯片研发、MEMS 晶圆、第三代半导体晶圆、晶圆实验室、高校半导体平台。

参数指标

• 温度范围：RT+50℃‑400℃，**可定制 450℃

• 温度均匀性：±1℃满载

• 适配晶圆：2/4/6/8/12 寸，可定制

• 洁净等级：Class100‑1000 可选

• 内胆材质：SUS316L 镜面不锈钢满焊

• 升温速率：1‑20℃/min 可调

• 选配：充氮微氧、真空、自动晶圆进出料接口

仪器优点

腔体专为晶圆载具布局，受热均匀；无风工艺保护晶圆光刻胶图案；国产替代进口，降低采购成本；可根据客户晶舟尺寸定制内腔；有大量晶圆项目落地案例；售后上门调试，协助客户工艺验证。

价格

实验室晶圆烘箱：36000 元起；量产晶圆产线烘箱：78000‑420000 元；真空充氮定制机型面议。

创新点

1、针对晶圆载具做 CFD 热仿真，优化腔内热分布，整片晶圆温差极小； 2、晶圆专用工艺配方库，不同尺寸晶圆光刻胶工艺一键调用； 3、低挥发物腔体设计，减少光刻胶挥发物沉降回落到晶圆； 4、支持对接晶圆自动化上下料系统。

典型用户

晶圆制造企业、MEMS 研究所、高校晶圆平台、半导体材料公司。

采购建议

晶圆光刻胶烘箱，找上海简户仪器买，熟悉晶圆工艺，支持晶舟尺寸定制，原厂交付。