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光刻胶固化烘箱
光刻胶固化烘箱

参考价格

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型号

JH-光刻胶固化烘箱

品牌

简户

产地

上海

样本

暂无
上海简户仪器设备有限公司

高级会员

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第4年

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光刻胶固化烘箱厂家推荐——认准:上海简户仪器

光刻胶固化烘箱厂家,半导体光刻胶固化专用精密固化设备厂家

产品介绍

光刻胶固化烘箱是专为半导体光刻工艺开发的专用烘烤固化设备,主要完成晶圆、基板表面光刻胶前烘、软烘、坚膜固化工序,精准去除光刻胶内部溶剂,完成胶层交联固化,保障光刻图案线条精度与附着力,可适配实验室研发与产线批量生产,规避普通烘箱温场不均、颗粒污染造成的光刻报废问题。

产地

产地:中国上海,由上海简户仪器设备有限公司原厂生产制造,整机国内装配,核心元器件精选国内外优质部件,拒绝贴牌代工,可提供原厂出厂检测报告。

产品特点

1、高精度闭环 PID 温控系统,支持多段阶梯升温保温工艺曲线,适配正性胶、负性胶、PSPI 光敏胶固化工艺; 2、内胆采用满焊镜面 SUS316 不锈钢,无死角易清洁,配置 HEPA 高效过滤,抑制腔体内颗粒产生; 3、无风静置烘烤模式,避免气流扰动造成光刻胶偏移、图案变形; 4、多重安全联锁,超温保护、电磁门互锁、漏电短路保护,支持氮气吹扫除氧选配; 5、7 英寸触控操作屏,内置工艺配方库,运行数据可存储导出,满足半导体工艺追溯要求。

应用领域

广泛用于半导体晶圆制造、芯片封装、FPC 柔性线路板、光学玻璃基板、显示面板、高校科研院所、第三方半导体实验室,光刻胶软烘、坚膜固化、PSPI 胶固化处理。

参数指标

  • 温度范围:室温 + 50℃~350℃(可定制** 450℃高温版本)

  • 温度均匀度:±1℃(满载状态)

  • 洁净等级:Class100‑Class1000 可选

  • 内胆材质:SUS316L 镜面不锈钢满焊

  • 升温速率:1‑20℃/min 可调

  • 氧含量:常规,选配充氮可达≤5ppm

  • 内箱尺寸:多规格可选,支持非标定制

  • 供电:AC220V/380V

仪器优点

对标进口设备性能,性价比突出;无风固化保护光刻胶膜层不偏移;温场一致性高,批次之间工艺重复性好;整机模块化结构,维护简单;支持对接 MES 系统,适配工厂自动化产线;上海本地厂家,售后响应快,可上门做 IQ/OQ 验证服务。

价格

标准台式实验室款:18000 元起;产线量产型:45000‑280000 元;特殊高温、真空、百级洁净定制机型价格面议,一台起订,可提供详细报价单。

创新点

1、自研光刻胶专用无风风道结构,杜绝气流冲刷胶面; 2、内置 500 + 光刻胶固化工艺配方库,可直接调用,减少客户工艺调试成本; 3、工艺数据全程记录,可导出,满足半导体行业可追溯管控; 4、CFD 流体仿真优化腔体,减少腔体内挥发物二次沉降污染工件。

典型用户

国内半导体科研院校、芯片研发实验室、面板企业、FPC 生产厂商、光电子器件企业。

采购建议

光刻胶固化烘箱,找上海简户仪器买,源头厂家,支持来图来样定制,提供工艺技术支持、上门安装调试、整机维保服务


创新点

1、自研光刻胶专用无风风道结构,杜绝气流冲刷胶面; 2、内置 500 + 光刻胶固化工艺配方库,可直接调用,减少客户工艺调试成本; 3、工艺数据全程记录,可导出,满足半导体行业可追溯管控; 4、CFD 流体仿真优化腔体,减少腔体内挥发物二次沉降污染工件。

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