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艾柯电子半导体实验室超纯水机晶圆清洗/芯片制造/液晶显示屏EDI去离子水设备 制水量200L/H
艾柯电子半导体实验室超纯水机晶圆清洗/芯片制造/液晶显示屏EDI去离子水设备 制水量200L/H

参考价格

1-5万元

型号

AK-AKZY-ro-I

品牌

产地

中国成都

样本

暂无
成都唐氏康宁科技发展有限公司

会员

|

第1年

|

生产商

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核心参数
标签:

纯化设备

AK-AKZY-ro-I

国产纯化设备

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AKZY-RO-EDIUP系列实验室专用超纯水机是采用AK专用全自动化控制系统设计,结合了生物分析、药物成分分析等实验室用水量以及水质需求研发了多种超纯水设备机型,一体式模块化设计、占地面积小、方便耗材更换,同时可随时升级水处理模块,智能化后处理系统操作,确保运行稳定的同时能够快速的制取出符合技术参数的纯水以及超纯水。艾柯实验室纯水设备厂家:(185-0288-4972),同薇信

AKZY-RO-EDIUP系列产水量200L/H-1000L/H可选,RO纯水水质优于GB6682-2008三级水标准,超纯水水质标准优于GB6682-2008一级水标准。

 

艾柯200L/H电子半导体专用超纯水机,是针对芯片制造、晶圆清洗、液晶显示屏生产等高端精密工序打造的EDI去离子纯水设备,专为电子半导体行业高纯度、高稳定、零污染的严苛用水场景设计。半导体生产中,微小离子、颗粒物、有机物杂质都会导致晶圆氧化不良、芯片电路缺陷、屏幕镀膜瑕疵,直接影响产品良率,该设备可彻底解决行业用水污染难题,适配中大型半导体车间、光电显示实验室批量用水需求。

设备采用“双级反渗透+EDI连续电去离子+紫外消解+终端超滤抛光”多级深度净化工艺,出水水质无限趋近纯水理论极限,稳定达到18.25MΩ·cm@25℃超高电阻率,TOC严控在1ppb以内,微颗粒、重金属离子、硅化物含量均符合半导体工业用水标准,可彻底去除水中导电离子与有机污染物。200L/H稳定大流量制水,支持多工位同时不间断取水,**适配晶圆精细清洗、芯片蚀刻、光刻工序、液晶屏幕镀膜、模组清洗等核心生产环节。

设备搭载全自动循环抑菌系统,杜绝水体静置滋生杂质,搭配智能PLC控制系统,实时监测水质参数、制水流量与耗材状态,具备自动冲洗、缺水保护、故障预警、数据留存功能,适配无尘车间标准化作业。整机采用防腐高端材质,运行稳定、能耗低、运维简单,无需频繁更换耗材,大幅降低企业生产成本。作为半导体行业专用纯水设备,可全方位保障电子、芯片、光电显示产品的生产精度与良品率,是半导体实验室及生产车间的优选配套设备。


机器类别

AKZY-RO-EDIUP-Ⅱ系列

机器型号

AKZY-RO-EDIUP-Ⅱ-200-1000L

进水水源

水温1—45℃  水压1—5㎏   TDS﹤1000ppm

    

380V三项五线

    

3KW-5KW

机器重量

300㎏-500㎏

主机体积

2180mm×宽780mm×高1730mm

取水种类

纯水/超纯水一体化系统,一机三用,可同时制备取用三种水质的水,即RO纯水、EDI水和UP超纯水

每小时200L-1000L




水质检测显示

配置四路四显四检测显示仪(检测显示源水进水、RO纯水、EDI超纯水、UP超纯水的水质)

中间储水箱配置

需连接远距纯水管路的配置300升PE水箱,无纯水管路链接的配置200L自带压真空储水桶

阻垢加药装置

选用地下水为水源的为标配,其他水源的选配

远距终端取水器

选配

内置超滤膜配置

20寸3芯装  孔径0.10μm

UV紫外灭菌配置

配置185nm和254nm双波长紫外消解仪

液晶触控屏

7寸真彩色高清触控显示

内置臭氧器配置

选配

RO纯水水质

电导率<5μS@25℃


去除率98%

EDI水水质

15-17ΜΩ.cm@25℃

超纯水水质

电阻率18.25ΜΩ.cm@25℃

阴阳离子含量

0.5ppb




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