
参考价格
1万元以下型号
PLASMA DRUM品牌
产地
日本样本
暂无全容积(m³):
200L能耗:
0.88A/ 0.4A处理量:
200L物料类型:
液体、固体、粉末、粘稠液体、浆料等工作原理:
立式森泽搅拌机
森泽PLASMA DRUM
国产搅拌机
看了日本 J‑SL PLASMA DRUM 常压等离子体处理装置 干式粉体表面改性设备的用户又看了
留言询价
咨询日本 J‑SL PLASMA DRUM 常压等离子体处理装置 干式粉体表面改性设备
使用微信扫码拨号

该装置是利用大气压等离子体对粉末表面进行改性的设备。
该装置是利用大气压等离子体对粉末表面进行改性的设备。
将群等离子体作用于容器内的粉末,通过旋转振荡进行搅拌,即可实现均匀的处理。
无需使用危险溶剂,可实现完全的干式处理流程,是一种对环境友好且生产效率极高的设备。
配备了冷却机构,能够处理低熔点的粉末。
规格・详情
①无需真空机制,采用全干式工艺,操作简单。
②可对粉末表面进行均匀处理。
③通过选择不同气体,可添加各种官能团。
④样品容器的旋转速度可单独控制。
⑤使用聚丙烯粉末时,每次可处理2升的物料。
⑥配有冷却机制,能够处理低熔点的粉末。
用途
①聚合物粉末表面的亲水化与疏水化处理
②无机物及陶瓷粉末表面的改性处理
③通过选择合适的等离子体气体来引入各种官能团
④通过引入各种官能团来提升树脂和溶剂中的分散性
⑤在药品和化妆品领域的应用
常压无真空设计,摒弃传统等离子设备真空机组,省去抽真空等待工序,设备结构简化,操作门槛更低,运行维护成本下降。
摘要日本PRIMIX拥有近百年流体均质设备研发经验,旗下MARK Ⅱ 20加压式高温高压高速乳化分散机,是针对高温密闭反应、高熔点物料、高压纳米分散开发的专用设备。设备集成双端面高压机械密封、模块化高
摘要随着难熔金属、陶瓷复合材料、半导体靶材、新能源粉体及先进碳材料技术的快速迭代,传统电阻式高温炉存在升温慢、温场不均、极限温度低、耗材寿命短、真空气氛兼容性差等短板,已无法满足高端材料烧结、提纯、碳
真空手套箱是隔绝水氧、实现惰性气氛密闭操作的核心设备,广泛应用锂电、有机合成、半导体、金属增材制造等领域。PLA 品牌推出教学、科研、工业全系列真空手套箱,凭借精密气密工艺、双柱复合净化系统与智能闭环
日本 J‑SL PLASMA DRUM 常压等离子体处理装置 干式粉体表面改性设备的工作原理介绍?
日本 J‑SL PLASMA DRUM 常压等离子体处理装置 干式粉体表面改性设备的使用方法?
日本 J‑SL PLASMA DRUM 常压等离子体处理装置 干式粉体表面改性设备多少钱一台?
日本 J‑SL PLASMA DRUM 常压等离子体处理装置 干式粉体表面改性设备的说明书有吗?
日本 J‑SL PLASMA DRUM 常压等离子体处理装置 干式粉体表面改性设备的报价含票含运费吗?
日本 J‑SL PLASMA DRUM 常压等离子体处理装置 干式粉体表面改性设备有现货吗?
波莫纳有办事机构吗?
波莫纳销售电话是多少?