参考价格
1万元以下型号
VPDBOX品牌
产地
日本样本
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森泽VPDBOX
国产合成/反应设备
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VPD BOX 特点
●该装置利用氢氟酸液的自然气化作用，使硅晶圆表面的氧化膜和氮化膜发生气相分解，从而让晶圆表面呈现疏水状态。
●与酸液及酸性环境接触的部位采用了PTFE和PVDF材料。
●请与半自动回收装置SC系列一起使用。
| 装置名 | VPDBOX-200-1M | VPDBOX-300-1M | VPDBOX-300-5M | VPDBOX-300-6M | |||||||||
| **处理枚数 | 1枚 | 1枚 | 5枚 | 6枚 | |||||||||
| 对应 管片 尺寸 | 100毫米 | 〇 | 〇 | 〇 | 〇 | ||||||||
| 125毫米 | 〇 | 〇 | 〇 | 〇 | |||||||||
| 150毫米 | 〇 | 〇 | 〇 | 〇 | |||||||||
| 200毫米 | 〇 | 〇 | 〇 | 〇 | |||||||||
| 300毫米 | ― | 〇 | 〇 | 〇 | |||||||||
| 外形(W×D×H)(毫米)(※1) | 290×290×250 | 390×390×250 | 410×405×410 | 410×405×460 | |||||||||
| 重量 | 6公斤 | 8公斤 | 15公斤 | 18公斤 | |||||||||
| 使用场所 | 清洁气流内部 | ||||||||||||
| 外部资源 | N2气体（用于酸性气氛吹扫） | ||||||||||||
※1：不包括突起物。
采用 HF 自然气化静态气相反应，无药液直接浸泡晶圆，不会对硅片基体造成过度蚀刻，仅精准剥离表面氧化 / 氮化薄膜，完美保留晶圆本体完整度，避免湿法预处理带来的晶圆损耗与杂质二次扩散。
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