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日本 NAS 技研 BEM-310 批量基体蚀刻装置(晶圆体蚀刻设备)
日本 NAS 技研 BEM-310 批量基体蚀刻装置(晶圆体蚀刻设备)

参考价格

1-5万元

型号

BEM-310

品牌

产地

日本

样本

暂无
深圳森泽工业品有限公司

金牌会员

|

第1年

|

代理商

工商已核实

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核心参数
  • 功率(kw):

    1.4kW
  • 重量(kg):

    约150kg
  • 规格外形(长*宽*高):

    1000×1300×2000mm
标签:

森泽其它辅助设备

森泽BEM-310

国产其它辅助设备

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这是一种利用臭氧和HF对硅晶圆整个表面进行体蚀刻的装置。
由于是气体蚀刻,晶圆表面不会产生水滴。
晶圆中的污染物不会通过蚀刻作用转移到其他位置。
这是在洁净室中使用的独立式设备。

蚀刻是对单片材料进行整体处理,但通过映射采集也可实现局部评估。
晶圆的搬运需要人工操作,但设备控制则通过电脑完成,因此操作起来十分简单。

装置名BEM-310
对应晶圆尺寸200毫米、300毫米
操作本体内置的电脑
批量蚀刻功能
回收率能力±10%以内
蚀刻后的平整度±10%以内
外形(宽×深×高)(毫米)(※1)1000×1300×2000
重量约150kg
使用设备酸排水、一般排气、酸排气
必要实用工具电源(AC100V,200V)、纯水、O2、N2、HF

※1:不包括凸起物。

创新点

区别于传统药液浸泡湿法蚀刻,依靠 HF 气体 + 臭氧反应实现硅基体剥离,晶圆表面全程无液态水滴附着,不会造成杂质随液体流窜二次污染,从源头保证深层金属污染物定位精准,检测结果可信度大幅提升。

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