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GMSD2000API 原料药混悬液粉碎机
GMSD2000API 原料药混悬液粉碎机

参考价格

5-10万元

型号

GMSD2000-405

品牌

SGN/思峻

产地

上海

样本

暂无
上海思峻机械设备有限公司

金牌会员

|

第10年

|

生产商

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核心参数
  • 调速范围:

    0-14000rpm
  • 分散轮直径(mm):

    45-296mm
  • 全容积(m³):

    0.1-10000L
  • 能耗:

    4-160kw
  • 处理量:

    300-50000L/H
  • 物料类型:

    液体、固体、粉末、粘稠液体、浆料等
  • 工作原理:

    立式
标签:

SGN/思峻分散机

SGN/思峻GMSD2000-405

国产分散机

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一、产品概述

GMSD2000 为医药专用卫生级管线式研磨分散设备,整机采用 316L 不锈钢材质,腔体镜面无死角,符合 GMP 药品生产规范,支持 CIP/SIP 在位清洗灭菌。设备专门针对 API 原料药粉体,在线完成药粉团聚体解聚、固体微粒超细粉碎与固液均质分散,一次性制备粒径均匀的药物混悬液,有效解决原料药结块、混悬液沉降分层、粒径跨度大等问题。整机密闭连续进料,可直接对接制药自动化生产线,适用于口服混悬剂、外用制剂、药剂中间体的连续化湿法生产。

二、工作原理

高速电机驱动多级阶梯定转子高速运转,进料口形成负压,原料药与药液被连续吸入研磨腔体。物料逐级进入多段研磨区:首段齿盘打散大块药粉团聚体,中段窄间隙磨头对固体颗粒进行挤压研磨,末段高剪切结构完成微粒均质分散。原料药在高速撞击、强力剪切、挤压研磨与湍流扰动的多重作用下被逐级细化,粉体颗粒可稳定研磨至微米级,全程密闭输送,无空气卷入,避免原料药氧化、混悬液起泡,既可单次通过出料,也可外接管路循环研磨来精准控制粒径。

GMSD研磨分散机内部结构.png


三、核心优势

在线连续密闭生产,无粉尘飞扬,原料药无损耗,满足制药车间洁净生产要求。

整机无卫生死角,拆装简单,可高温在位灭菌,完全符合药品 GMP 管控标准。

分级阶梯研磨结构,先解聚再精磨,原料药粒径分布窄,混悬液长期储存不易沉淀,提升药物稳定性与生物利用度。

模块化定转子可快速更换,灵活调节研磨细度,适配不同 API 原料药的粒径工艺要求。

腔体可加装冷却夹套,严控研磨温升,避免热敏性原料药受热降解,保障药效稳定。

四、设备参数

型号

标准流L/h

转速(rpm

线速度(m/s

马达功率(KW

进出口尺寸

GMSD2000/4

300

14000

41

4

DN25/DN15

GMSD2000/5

1500

10500

41

11

DN50/DN32

GMSD2000/10

4000

7200

41

22

DN80/DN65

GMSD2000/20

10000

4900

41

45

DN100/DN80

GMSD2000/30

20000

2850

41

90

DN150/DN125

GMSD2000/50

60000

1100

41

160

DN200/DN150


创新点

采用梯度窄间隙阶梯研磨腔体,将原料药团聚解聚、微粒超细研磨、固液均质分散集成在单台管线设备内,省去前置预分散设备,同时通过夹套控温抑制药粉受热变质,一道工序即可完成热敏性 API 混悬液的稳定制备,精简整条制药生产线配置

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