
参考价格
5-10万元型号
GMSD2000-163品牌
SGN/思峻产地
上海样本
暂无全容积(m³):
0.1-10000L能耗:
4-160kw处理量:
300-50000L/H物料类型:
液体、固体、粉末、粘稠液体、浆料等工作原理:
立式调速范围:
0-14000rpm分散轮直径(mm):
45-296mmSGN/思峻分散机
SGN/思峻GMSD2000-163
国产分散机
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一、产品概述
本机为 SGN 立式日化卫生级研磨分散一体机,专门针对护发发膜、修护发膏加工,可负压密闭吸入水解角蛋白、硅粉、珠光粉、增稠粉体,一站式完成粉体结块研磨破碎、活性成分纳米分散、膏体均质脱泡循环预处理。护发类超细粉体极易浮面抱团、形成鱼眼干芯,普通搅拌成品膏体颗粒粗糙、营养分布不均;本机采用柔和镜面研磨定转子,低冲击不破坏蛋白、植物修护活性,整机 316L 镜面无死角腔体,可配套移动循环料罐,符合 ISO22716 美妆生产卫生标准。
二、立式工作原理
整机立式变频传动,物料自上而下三段循环加工: 1. 一级负压研磨腔:文丘里负压同步吸入护发粉体与油膏基底,可调间隙柔和研磨齿碾碎粉体硬团聚,粉体瞬间完全润湿,消除干粉鱼眼结块; 2. 二级中剪切解离腔:温和湍流打散微絮团,分散剂均匀包覆硅粉、营养修护颗粒; 3. 三级超细均质腔:低强度空化剪切细化颗粒,膏体细腻顺滑,物料回流储料罐持续循环均质脱泡。物料同步承受柔和研磨、可控水力剪切,单次循环完成研磨、水粉混合、均质、脱泡四道工序。
三、核心优势
1. 研磨分散复合一体结构,彻底打散硅粉、营养粉体团聚,发膜质地均匀细腻,修护成分分布一致; 2. 镜面柔和动静齿,无金属杂质析出,低剪切保护角蛋白、植物提取物热敏活性不失效; 3. 低温缓冲腔体,加工温升≤3℃,避免油脂、香精高温氧化变味; 4. 全圆弧卫生腔体,无藏料死角,支持 CIP 在线清洗,多款香型、功效发膜换产无交叉串味; 5. 立式自重排空无残料,密闭负压投料无粉尘,防爆款可定制适配高油配方体系; 6.可变频调速,适配轻薄护发精华乳、高稠修护发膜,小试到量产工艺线性放大。
四、主要技术参数
型号 | 标准流量(L/h) | 转速(rpm) | 线速度(m/s) | 马达功率(KW) | 进出口尺寸 |
GMSD2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1500 | 10500 | 41 | 11 | DN50/DN32 |
GMSD2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN100/DN80 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
高剪切、高转速、高精度
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