参考价格
5-10万元型号
GMSD2000-160品牌
SGN/思峻产地
上海样本
暂无调速范围：
0-14000rpm分散轮直径（mm）：
45-296mm全容积（m³）：
0.1-10000L能耗：
4-160kw处理量：
300-50000L/H物料类型：
液体、固体、粉末、粘稠液体、浆料等工作原理：
立式SGN/思峻分散机
SGN/思峻GMSD2000-160
国产分散机
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一、产品概述
本机为 SGN 立式防腐型研磨分散一体机，适配轻质 / 重质氧化镁纳米粉体浆料加工，一站式完成负压无尘吸粉、硬质团聚研磨破碎、纳米解聚、浆料均质循环预处理。氧化镁粉体比表面积大、极易吸潮抱团，传统搅拌无法完全打散，浆料易沉降、涂层不均；本机采用碳化钨耐磨防腐定转子，低温控温抑制氧化镁水化反应，整机 316L 防腐镜面腔体，可配套循环移动料罐，适配电子陶瓷、锂电涂层、阻燃填料等氧化镁浆料连续化生产。
二、立式工作原理
整机立式变频传动，物料自上而下三段递进循环处理： 1. 一级负压研磨腔：文丘里负压吸入氧化镁干粉与溶剂，可调间隙研磨齿挤压破碎粉体硬团聚，粉体瞬间充分润湿，消除干粉鱼眼结块； 2. 二级中剪切解离腔：湍流打散微絮团，分散剂均匀包覆氧化镁颗粒； 3. 三级超细均质腔：高强度水力空化剪切，剥离纳米软团聚，粒径分布均匀稳定，物料回流储料罐持续循环细化。物料同步承受研磨挤压、高速剪切、空化作用，单次循环完成研磨、混合、均质、脱泡。
三、核心优势
1. 研磨分散复合一体结构，彻底打散氧化镁团聚体，提升浆料悬浮稳定性，杜绝涂层漏涂、厚薄不均； 2. 碳化钨防腐耐磨动静齿，耐碱性氧化镁冲刷，无金属杂质污染高纯浆料； 3. 低温缓冲腔体，加工温升≤3℃，抑制氧化镁水化膨胀，保障成品性能； 4. 全圆弧防腐镜面腔体，无藏料死角，支持 CIP 清洗，多规格氧化镁配方切换无交叉污染； 5. 立式自重排空无残料，密闭负压投料无粉尘，防爆 / 常规双配置可选。
四、主要技术参数
型号 | 标准流量（L/h） | 转速（rpm） | 线速度（m/s） | 马达功率（KW） | 进出口尺寸 |
GMSD2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1500 | 10500 | 41 | 11 | DN50/DN32 |
GMSD2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN100/DN80 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
高剪切、高转速、高精度
在化工、食品、制药等工业领域，实现物料高效、精细化的处理是提升产品品质的关键。研磨、均质、分散、乳化等核心工艺，对最终产品的稳定性、口感和性能起着重要作用。其中，高速剪切均质（HSSH）是一种安全、环
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