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Exicor DUV 深紫外光刻双折射测量系统
Exicor DUV 深紫外光刻双折射测量系统

参考价格

1万元以下

型号

Exicor DUV / Exicor 193 DUV

品牌

产地

美国

样本

暂无
深圳市秋山贸易有限公司

高级会员

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第9年

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Sreen其他

SreenExicor DUV / Exicor 193 DUV

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Exicor DUV 系列是美国 Hinds Instruments 推出的深紫外光刻用双折射测量系统,专为 157nm、193nm、248nm 等 DUV 光刻波长设计,可精准测量透镜毛坯、光掩模毛坯等光学元件的本征双折射,是光刻行业光学制造的核心检测设备。

系统搭载重型自动化 XY 工作台,支持** 400×400mm、厚度超 200mm 的大尺寸光学元件检测,采用 PEMLabs™弹性调制器与 Signaloc™锁相放大器,延迟分辨率达 0.01nm,重复性 ±0.08nm,角分辨率 0.01°,重复性 ±0.5°,检测精度行业**。Exicor DUV 型号配备局部氮气置换系统,解决 157nm 紫外被氧气吸收的问题,防止臭氧生成;193 DUV 型号适配浸没式 193nm 光刻系统,无需氮气置换,风冷光源更便捷。

设备支持双轴晶格 2D/3D 图形化显示,内置高级数据分析功能,可选高速动态扫描、定制夹具、应力估算等功能,可自动运行多班次无人值守检测,适配半导体光刻、光学材料研发、精密光学制造等高端场景,为光学元件质量管控提供全流程解决方案。


创新点

深紫外多波长适配,覆盖 157/193/248nm 光刻波段;超高精度双折射检测,纳米级分辨率;大尺寸重型工作台,适配超大光学元件;氮气置换防臭氧,适配 157nm 特殊工况;自动化无人值守,高效批量检测。

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