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ARIOS UHVPS 超高真空排气实验装置
ARIOS UHVPS 超高真空排气实验装置

参考价格

面议

型号

UHVPS

品牌

产地

日本

样本

暂无
深圳市秋山贸易有限公司

高级会员

|

第9年

|

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核心参数
  • 功率(kw):

    3.0
  • 重量(kg):

    60
  • 规格外形(长*宽*高):

    500mm×600mm×1100mm
标签:

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在材料研发、半导体工艺、真空实验等领域,超高真空环境是保障镀膜、刻蚀、表面处理等工艺精度的核心基础,而小型化、高稳定性的真空排气装置,是实验室研发与工艺验证的核心需求。传统大型真空设备体积庞大、运维复杂,难以满足实验室便捷使用、低成本部署的需求,成为工艺研发的瓶颈。

ARIOS UHVPS 超高真空排气实验装置,为超高真空工艺实验提供了小型化、高可靠性的专业解决方案。这款设备由日本 ARIOS 基于多年超高真空装置制造技术打造,从材料选择、焊接到表面处理全流程采用专业工艺,可实现短时间内达到超高真空环境,主腔室配备样品更换舱门,可组合等离子体源、加热机构、蒸镀源等组件,适配镀膜、刻蚀等多种实验场景。

设备采用紧凑型腔室与简单结构,维护便捷,以*小配置、完全手动设计实现低成本引入,同时支持全选项定制化,可根据客户需求灵活拓展。腔室采用 SUS304 材质,内面镜面电解研磨处理,漏率低至 6.7×10⁻¹¹Pa・m³/sec 以下,可实现 1×10⁻⁴Pa 以下的高真空环境,保障实验精度。标配涡轮分子泵与旋转泵,搭载数字控制电源,仅需电力与压缩空气即可运行,部署灵活。

无论是材料研发中的真空工艺探索、半导体器件的真空处理,还是镀膜刻蚀等实验验证,ARIOS UHVPS 超高真空排气实验装置都能提供稳定、高效的实验支持。作为日本 ARIOS 的专业设备,产品凭借小型轻量化、高稳定性的优势,成为真空工艺研发与实验的信赖之选,助力企业提升工艺效率,是超高真空实验的核心设备

创新点

采用小型化紧凑型设计,搭载高真空排气系统,可实现 1×10⁻⁴Pa 以下的超高真空环境,结构简单易维护,支持多组件定制化,适配真空实验多场景需求。

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