主要材质：
99.9%形状：
粉末莫氏硬度：
9密度(kg/m³)：
3.98达西浓/Dashinou磨料
达西浓/DashinouDXN-HS100
国产磨料
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稀土抛光粉
一：简介：稀土抛光粉是以氧化铈为主体成分的混合轻稀土氧化物粉末，用于提升制品表面光洁度。原料包括氟碳铈矿精矿（RE2O3≥70%）或可溶性稀土盐类（如CeO2/RE2O3=45%~50%的氯化稀土或含CeO2大于80%的富铈稀土化合物），经化学处理、灼烧、粉碎等工艺制成。
氧化铈抛光粉是以二氧化铈为主要成分的玻璃抛光材料，起源于20世纪30年代欧洲，我国于1968年研制成功。 该产品分为低铈、中铈、高铈三类，氧化铈含量递增对应切削力与使用寿命提升，其中低铈型占国内总用量85%以上。 主要原料为稀土氧化物，通过高温煅烧、水力分级等工艺制备，具有抛光效率高、污染小的特点。
二：稀土抛光粉参数：
三：稀土抛光粉粒度报告：
报告为马尔文激光粒度报告如上
四：稀土抛光粉特点：
（1）采用稀土金属矿物质作为原料，经煅烧制成的红色抛光粉，可用于光学玻璃加工。
（2）平均粒度0.2-1.5um，可满足光学元件的精度要求。
（3）抛光精度高，易清洗。
五：达西浓纳米的稀土抛光粉广泛应用于光学玻璃、显像管玻壳、智能手机盖板及半导体元件抛光等领域
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达西浓纳米的稀土抛光粉广泛应用于光学玻璃、显像管玻壳、智能手机盖板及半导体元件抛光等领域.氧化铈含量递增对应切削力与使用寿命提升，其中低铈型占国内总用量85%以上。 主要原料为稀土氧化物，通过高温煅烧、水力分级等工艺制备，具有抛光效率高、污染小的特点。
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