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GM2000实验室高剪切胶体磨分散机
GM2000实验室高剪切胶体磨分散机

参考价格

5-10万元

型号

GM2000-12

品牌

SGN/思峻

产地

上海

样本

【下载】
上海思峻机械设备有限公司

金牌会员

|

第10年

|

生产商

工商已核实

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核心参数
  • 粉碎程度:

    超细粉碎
  • 单位能耗:

    4
  • 产量:

    300-50000L/H
  • 装机功率(kw):

    4-160kw
  • 成品细度:

    0.1-100um
  • 入料粒度(mm):

    0.1-1000um
  • 工作原理:

    介质研磨
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GM2000实验室高剪切胶体磨,实验室中试型胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生 向下的螺旋冲击力。

 (洽谈:1-9-9-5-1-8-2-4-5-2-6)

GM2000实验室高剪切胶体磨

image.png

高校研究院实验室胶体磨,试验室胶体磨,小型胶体磨,德国实验室胶体磨,高转速实验室胶体磨

 (洽谈:1-9-9-5-1-8-2-4-5-2-6)

此款实验室胶体磨比普通的胶体磨的速度达到4-5倍以上,研磨效果非常好,转速可以达到14000RPM。

image.png

高校研究院实验室胶体磨的研磨效果

影响研磨粉碎结果的因素有以下几点:

1.胶体磨磨头头的剪切速率(越大,效果越好)

2.胶体磨头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)

3.物料在研磨腔体的停留时间,研磨粉碎时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)

4.循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,便不能再好)

 (洽谈:1-9-9-5-1-8-2-4-5-2-6)

线速度的计算:

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

剪切速率(s-1)= v速率(m/s)
g定-转子间距(m)

由上可知,剪切速率取决于以下因素:

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子间距。
IKN定-转子的间距范围为0.2~0.4mm

速率V=3.14XD(转子直径)X转速RPM/60

 image.png

实验室胶体磨 ,实验室中试型胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生 向下的螺旋冲击力,透过定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。(洽谈:1-9-9-5-1-8-2-4-5-2-6)

                 
实验室胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,实验室中试型胶体磨用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。 物料粘度或固含量高导致不能正常进料和输送时,须选用压力或输送泵进料或送料,输送泵的压力和流量与被选机型相匹配。

(洽谈:1-9-9-5-1-8-2-4-5-2-6)

GM2000/4实验室胶体磨是专门为胶体溶液生产所设计,特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。 实验室胶体磨的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。实验室胶体磨的定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

image.pngimage.png

 (洽谈:1-9-9-5-1-8-2-4-5-2-6)

GM2000实验室高剪切胶体磨设备选型表:

型号

流量

L/H

转速

rpm

线速度

m/s

功率

kw

/出口连接

DN

GM2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

GM2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

GM2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

GM2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

GM2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

GM2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 


创新点

高剪切、高转速、高精度

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售后服务

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