超纯三氧化钨粉体：高端材料领域的理想之选

在高端材料的精密世界里，每一份性能突破都源于基础原料的**追求。我们的三氧化钨（WO₃）粉体，以**参数重新定义行业标准，为您的创新应用筑牢根基。

一、核心参数：实力铸就品质

（一）高纯度，低杂质

WO₃含量高达99.98%，杂质元素严格管控：Si 仅 20ppm、Al 5ppm、Ti 7ppm ，极低的杂质残留，为电子、光学等对纯度敏感领域提供纯净 “基石”，避免杂质引发的性能波动，保障终端产品稳定性与一致性。

（二）精细微观，精准可控

• 原晶粒度：SEM 检测显示原晶粒度为30nm ，纳米级晶粒赋予材料大比表面积与高活性，在催化、涂层等应用中，可加速反应进程，提升材料性能；

• 松装密度：0.45g/cm³ ，良好的松散特性，便于生产中均匀分散、混合，适配多种工艺（如陶瓷烧结、涂层制备），减少团聚带来的质量隐患；

• 比表面积：3m²/g ，合理的比表面参数，平衡材料活性与稳定性，既满足高效反应需求，又避免因表面能过高导致的团聚、失活问题。

（三）严苛杂质，全面护航

• 重金属杂质（Pb、Sn 等）：Pb 检测为 0、Sn 仅 2ppm ，符合电子、医药等领域严苛的环保与安全标准，助力产品通过国际认证；

• 磁性异物（Fe、Cr、Ni）：控制在 65ppb ，在精密电子器件、光学设备制造中，杜绝磁性杂质对电磁性能、光学精度的干扰，保障设备高效运行。

• 水分：0.7Wt.% ，低水分含量，提升材料存储稳定性，避免因吸水导致的变质、团聚，延长货架期，降低生产损耗。

二、多元应用：解锁无限可能

（一）电子信息领域

在芯片制造、传感器件中，高纯度、低杂质的三氧化钨，可制备高性能半导体薄膜、敏感元件 。其纳米晶粒与精准比表面，助力电子迁移效率提升，让器件响应更快、精度更高，为 5G、人工智能硬件升级提供核心支撑。

（二）光学涂层方向

用于光学玻璃、镜头涂层，30nm 原晶粒度可实现均匀、致密涂层沉积 ，99.98% 纯度保障高透光率与低散射，搭配低磁性异物优势，为高端光学仪器（如显微镜、天文望远镜）打造清晰、稳定的光学环境。

（三）催化材料应用

凭借高活性比表面与纳米晶粒，作为催化剂或催化剂载体，可加速化学反应（如废气处理、新能源合成反应） 。低杂质确保催化路径纯净，提升反应转化率与选择性，助力环保、能源领域工艺优化。

（四）陶瓷与新材料

在陶瓷烧结中，均匀分散的纳米粉体可细化陶瓷晶粒，提升陶瓷强度、韧性与电学性能 ；用于新型储能材料（如锂离子电池电极改性），能优化离子传输通道，增强电池充放电效率与循环寿命。

三、品质承诺：从原料到应用的全链保障

我们坚持源头把控，精选优质钨矿原料，结合先进提纯、纳米制备工艺（如气相沉积、液相合成优化），确保每一批三氧化钨粉体参数稳定。生产过程全流程质检，覆盖杂质分析、微观结构表征、理化性能测试，为您提供可追溯、高可靠的材料解决方案。

无论您是深耕电子芯片的技术先锋，还是探索新能源催化的科研团队，亦或是专注光学涂层的制造专家，这款三氧化钨粉体都将成为您突破技术瓶颈、打造高端产品的得力伙伴。选择我们的三氧化钨，就是选择性能**、品质如一的材料基石，携手开启高端材料应用的全新可能！

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