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二硅化钴 CoSi2 金属粉末
二硅化钴 CoSi2 金属粉末

参考价格

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型号

RDB-FM-CoSi2

品牌

上海研倍

产地

上海

样本

暂无
上海研倍新材料科技有限公司

白金会员

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第1年

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  • 纯度:

    99.9%,可定制
  • 目数:

    200目
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上海研倍新材料 专业生产金属粉末 CoSi2 金属粉末

1、产品信息

货号纯度规格形貌
RDB-FM-CoSi2可定制10-50μm、20-63μm、50-100μm 等银灰色粉末

2、产品规格

样品测试包装:客户指定(<1kg / 真空密封瓶)

样品产品包装:1kg / 真空密封瓶

常规产品包装:5kg/10kg/25kg

备注:采用双层真空包装,内部充入高纯氩气保护,外部为防潮铝箔袋封装,支持定制包装规格。需存放于干燥、通风、无腐蚀性气体的环境中,避免与空气、水汽接触,远离酸、碱、强氧化剂。

3、产品概述

二硅化钴(CoSi₂)粉末由上海研倍新材料运用真空感应熔炼 - 气雾化工艺或高温固相合成法制备而成,具有纯度高、粒径分布窄、化学稳定性良好的特点。作为过渡金属硅化物,CoSi₂晶体呈现特定晶相结构,钴(Co)元素的电子结构赋予其独特的电学与磁学性能。它具备良好的导电性,可作为低电阻接触材料;在磁性方面,其磁性特性会随温度和外界磁场变化而改变。此外,CoSi₂拥有优异的高温抗氧化性,抗氧化温度达 850℃以上,且具有较高的热导率和化学稳定性,在半导体、磁性存储、高温涂层等领域展现出重要的应用潜力,是电子信息和新材料领域的关键基础材料。

4、产品用途

半导体领域:利用 CoSi₂良好的导电性和与硅(Si)基底的低接触电阻特性,广泛应用于集成电路中的源 / 漏极和栅极的硅化物,可降低器件的串联电阻,提高电子迁移速率,提升芯片的性能和集成度,助力先进制程芯片的研发与生产。

磁性存储领域:基于其独特的磁学性能,CoSi₂可用于制备磁性隧道结、自旋阀等磁性存储单元的关键材料,在提高存储密度、加快读写速度、降低能耗等方面发挥重要作用,推动高密度磁性存储技术如硬盘、固态硬盘的发展。

高温涂层领域:凭借其优异的高温抗氧化性和热稳定性,CoSi₂可作为高温防护涂层材料,应用于航空发动机涡轮叶片、高温炉部件表面,形成致密的抗氧化保护膜,有效阻挡高温氧化和热腐蚀,延长部件使用寿命,提升高温设备的可靠性和安全性。

科研与新材料开发:作为基础研究材料,用于探索过渡金属硅化物的电子结构、磁电耦合效应等前沿科学问题;也可与其他材料复合,开发新型功能合金、复合材料,满足航空航天、新能源等领域对高性能材料的需求。

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